体视显微镜的应用
1．动物学、植物学、昆虫学、组织学、矿物学、考古学、地质学和皮肤病学等的研究。
2．在纺织工业中，用于原料及棉毛织物的检验。
3．在电子工业中，作为晶体管点焊、检查等操作工具。
4．各种材料的裂缝构成，气孔形状腐蚀情况等表面现象的检查。
5．在制造小型精密零件时，用于机床工具的装置、工作过程的观察、精密零件的检查以及装配工具。
6．透镜、棱镜或其它透明物质的表面质量，以及精密刻度的质量检查。
7．作文书钱币的真假判辨，刑侦犯罪证据的检索。
8．广泛应用于纺织制品、化工化学、塑料制品、电子制造、机械制造、医药制造、食品加工、印刷业、高等院校、考古研究等众多的领域。 共聚焦显微镜主要的观察对象是荧光。变倍 显微镜性价比
透射电镜的工作过程与光学显微镜类似。在光学显微镜中聚焦后的可见光射向样品，穿过样品的光经过物镜、目镜等光学系统聚焦后被眼睛接收。在电子显微镜中，可见光由电子枪发射出来的电子束所代替,在阳极加速电压的作用下，电子经过2、3个电磁透镜会聚为电子束，用来照明样品薄片 (电子的穿透能力很弱，因此样品必须很薄)，穿过样品薄片的电子携带了样品本身的结构信息，经物镜、中间镜和投影镜所组成的成像系统的接力聚焦放大以图像或衍射谱的形式显示于荧光屏或感光材料上。多倍率显微镜按需定制显微镜的几种观察方式；
聚焦离子束（FIB）显微镜
随着纳米科技的发展，纳米尺度制造业发展迅速，而纳米加工就是纳米制造业的重要部分，纳米加工的代表性方法就是聚焦离子束。近年来发展起来的聚焦离子束（FIB）技术利用聚焦离子束对材料进行纳米加工，配合扫描电镜（SEM）等高倍数电子显微镜实时观察，成为了纳米级分析、制造的主要方法。目前已广泛应用于半导体集成电路修改、切割和故障分析等。
技术特征
1、比较高束流可以达到100nA,且加工性能优异。可以实现快速切割和纳米加工。
2、最高分辨率小于3nm，可以实现精细加工，并显示优异的FIB成像质量。
3、电压范围在500V-30KV可调，可以实现精细抛光，降低样品表面非晶层厚度。
4、离子源比较稳定，使用寿命长。行业内**长离子源寿命1500小时（3000uAh），72小时束流变化在5%以内。5、与SEM镜筒完美配合，可以实现FIB加工过程中可以利用SEM进行实时观察。
共聚焦显微镜发展趋势共聚焦显微镜在技术层面上为了获得更好的观察效果，着力于从提高分辨率、降低光毒性、提高扫描速度、厚样品观察等方面提升技术水平。目前来看Z有效，对共聚焦显微镜技术推动Zda的是超高分辨率显微术，突破光学极限使研究者能够获得更精细的细胞结构，有利于研究者更深刻的认识生命活动。人们对微观事物的认知要求已不仅局限于二维图像观测，同时需要对微小物体的三维结构进行了解和研究。普通显微镜原理为物面前后一定厚度内飞所有断层图像的叠加，已无法达到应用需求。激光扫描共聚焦显微镜的扫描成像技术。
典型的共焦显微镜装置是在被测对象焦平面的共轭面上放置两个小孔，其中一个放在光源前面，另一个放在探测器前面，如图1所示。由图可知，当被测样品处于准焦平面时，探测端收集到的光强比较大；当被测样品处于离焦位置时，探测端的光斑发生弥散，光强迅速减小。因此，只有焦平面上的点所发出的光才能透过出射针（zhen）孔，而焦平面以外的点所发出的光线在出射针（zhen）孔平面是离焦的，绝大部分无法通过中心的针（zhen）孔。因此，焦平面上的观察目标点呈现亮色，而非观察点则作为背景呈现黑色，反差增加，图像清晰。在成像过程中，两针（zhen）孔共焦，共焦点为被探测点，被探测点所在的平面为共焦平面。共聚焦显微镜主要应用于：生物学领域、高分子化学领域、表面粗糙度领域。70XL显微镜分类
体视显微镜又可称为立体显微镜或解剖显微镜；变倍 显微镜性价比
金相显微镜放大倍数通常在50-1000倍，照明系统有透射光和同轴反射光，而体视显微镜的放大倍数一般在5-100倍之间， 一般有透射光，斜射光和外部环形光源等照明方式。金相显微镜和体视显微镜相比放大倍数比较大，但是观察范围要小很多，两种显微镜互补能够满足绝大多数应用需求。无限远光学系统确保整体图像质量和系统拓展性；22mm大视野平场成像；稳定的色温和度白光LED照明；流线型的机身外观和特殊的表面处理工艺，基于人体工程学设计，操作更加便捷舒适；落射照明附件配置简易偏光附件，可实现偏光观察；保留了明场观察方法，同时可拓展暗场、专业偏光和荧光等观察方法；三目观察，配置数码相机可对样本进行拍摄和精细测量。变倍 显微镜性价比
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