聚焦离子束（FIB）显微镜
随着纳米科技的发展，纳米尺度制造业发展迅速，而纳米加工就是纳米制造业的重要部分，纳米加工的代表性方法就是聚焦离子束。近年来发展起来的聚焦离子束（FIB）技术利用聚焦离子束对材料进行纳米加工，配合扫描电镜（SEM）等高倍数电子显微镜实时观察，成为了纳米级分析、制造的主要方法。目前已广泛应用于半导体集成电路修改、切割和故障分析等。
技术特征
1、比较高束流可以达到100nA,且加工性能优异。可以实现快速切割和纳米加工。
2、最高分辨率小于3nm，可以实现精细加工，并显示优异的FIB成像质量。
3、电压范围在500V-30KV可调，可以实现精细抛光，降低样品表面非晶层厚度。
4、离子源比较稳定，使用寿命长。行业内**长离子源寿命1500小时（3000uAh），72小时束流变化在5%以内。5、与SEM镜筒完美配合，可以实现FIB加工过程中可以利用SEM进行实时观察。 显微镜的规范操作教程；多倍率显微镜供应商家
激光共焦扫描显微镜是点成像，因此要想获得物体的二维图像，需要借助于x和y方向的二维扫描。不同的显微镜采用不同的扫描方式：
(1)物体扫描。即物体本身按照一定的规律移动，而光束保持不变。
优点：光路稳定；缺点：需要大幅度的扫描工作台，因此扫描速度受到很大限制。
(2)利用反射式振镜构成光束扫描系统。即通过控制扫描振镜将聚焦光点有规律地反射到物体某一层面，完成二维扫描。其优点是精度较高，常用于高精度测量。扫描速度比物体扫描有所提高，但仍然不快 。
(3)使用声光偏转元件进行扫描，通过改变声波输出频率进而改变光波的传输方向来实现扫描。其突出优点是扫描速度非常快，由美国研制的利用声光偏转器产生实时视频图像的扫描系统，扫描一幅二维图像只需1/30s，几乎做到了实时输出。
(4)Nipkow盘扫描，其扫描过程是通过旋转Nipkow盘而保持其他元件不动完成的，可以一次成像，速度非常快。但是由于成像光束是轴外光，所以必须对透镜的轴外像差进行校正，并且光能利用率很低 mitutoyo显微镜答疑解惑显微镜系统维护保养；
扫描探针显微镜控制器通过扫描器在竖直舛由方向移动样品以使探针和样品之间的距离(或相互作用的物理量)稳定在某一固定值;同时在x-y水平平面移动样品，使探针按照扫描路径扫描样品表面。扫描探针显微镜在稳定探针与样品间距的情况下，检测系统检测探针与样品之间相互作用的相关物理量信号;在稳定相互作用物理量的情况下，则通过竖直方向礴由位移传感器检测探针与样品之问距离。图像系统则根据检测信号(或探针与样品间距)对样品表面进行成像等图像处理。
透射电镜的工作过程与光学显微镜类似。在光学显微镜中聚焦后的可见光射向样品，穿过样品的光经过物镜、目镜等光学系统聚焦后被眼睛接收。在电子显微镜中，可见光由电子枪发射出来的电子束所代替,在阳极加速电压的作用下，电子经过2、3个电磁透镜会聚为电子束，用来照明样品薄片 (电子的穿透能力很弱，因此样品必须很薄)，穿过样品薄片的电子携带了样品本身的结构信息，经物镜、中间镜和投影镜所组成的成像系统的接力聚焦放大以图像或衍射谱的形式显示于荧光屏或感光材料上。显微镜不同的照明方式，观察成像也不同。
工业测量显微镜广泛应用于多个行业，尤其在电子行业，它是观察电路板的构造和精确测量距离的“得力”仪器。
根据不同的照明方式，观察成像也不同，因此需要根据不同的工件以及测量部位选择适合的照明方式。透射照明是采用透过轮廓光观察的方法，特别是观察测量轮廓时使用，边缘清晰易于观察。垂直反射照明是垂直照射测量工件的表面，适合用来表面性状的观察和测量。外部照明是用斜射的光来照射测量工件的表面，能够实现立体的、颜色重复性良好的观察。 透射电子显微镜和扫描电子显微镜；浙江双光路显微镜
照明系统通常包括光源，聚光镜及其他辅助透镜、反射镜。多倍率显微镜供应商家
显微镜常见故障的排除：
一、显微镜灯泡不亮1、检查电源线是否有松动，插座是否正常。2、检查保险丝是否烧断（保险丝多在机身电源接口处），如烧断了则更换保险丝。3、更换备用灯泡，注意在更换过程中不要手指直接接触到灯泡。
二、显微镜无法对焦成像1、检查调焦限位机构是否没调节好，导致工作距离不够。2、检查样品是否放反。
三、低倍下成像清晰，高倍下成像较模糊1、高倍下对样品厚度和平整度有更高要求，检查样品是否平整。2、盖玻片位置是否放反，注意盖玻片朝上。3、生物显微镜应注意100X物镜是否滴油，物镜是否干净。4、切换到高倍镜时，聚光镜上的孔径光阑相应调大。
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