大型光纤预制棒表面处理修理

特点：①反应气体的电子温度高，反应充分，沉积效率较MCVD法高一些；②沉积温度比MCVD法低，石英管不易变形，制成的预制棒纵向均匀性好；|③沉积层较多，每层的厚度非常薄，通过精确的微机控制工艺可获得近乎理想的折射率分布，多模光纤的带宽性能好；④其缺点是采用天然石英砂的外皮管，用PCVD法制成的光纤其抗拉强度和抗微裂扩张强度较低，与MCVD法制成的光纤相同。如果PCVD法和MCVD法采用汽相沉积的石英管，强度问题可以解决，但产品成本会有较大幅度的上升。研发生产环保新材料“JL-NFS”塑料板。大型光纤预制棒表面处理修理

在芯棒的制造技术中，MCVD 和 PCVD 称为管内沉积工艺，OVD 和 VAD 属于外沉积工艺;在外包层工艺中，外沉积技术是指 OVD 和 VAD，外喷技术主要指用等离子喷涂石英砂工艺。现今光纤外包层制造技术包括套管法、阿尔卡特(Alcatel)公司发明的等离子喷涂法(PlasmaSpary)、火焰水解法(SOOT)和美国朗讯科技公司发明的溶胶法-凝胶法(Sol-gel法)，其中SOOT法是泛指OVD和VAD等火焰水解外沉积工艺。MCVD [2]法现采用外沉积技术取代套管法制作大预制棒，形成MCVD外沉积工艺相结合的混合工艺，从而改变了传统MCVD工艺沉积速度低、几何尺寸精度差的缺点，降低了生产成本，提高了预制棒的质量。此后，又有一些公司开发了低成本大尺寸的套管工艺，套管制备工艺为Sol-gel和OVD法。镇江特殊光纤预制棒表面处理目前成功研发新的技能已经超上百项。

石英光纤预制棒主要由纯石英玻璃包层和掺锗石英玻璃芯层组成，石英光纤预制棒是光纤制造工艺的**。为提高光纤预制棒的质量，保证光纤具有低损耗，在拉丝及涂覆前必需对它进行处理。虽然石英玻璃可以抵抗许多种酸，但氢氟酸(hf)能够轻易腐蚀和抛光其表面，世界上**成熟的石英光纤预制棒表面处理生产工艺之一就是用hf、盐酸(hcl)进行处理。现今石英光纤预制棒酸洗多采用酸洗设备来完成，酸洗设备利用循环的氢氟酸(hf)，在酸洗槽内腐蚀和抛光预制棒表面；酸洗槽槽体设计可承受高压，并带有保护槽盖，防止废液飞溅，保护操作人员免受腐蚀性酸液和酸雾的损害；酸洗过程中产生的废水废气由排放系统循环到废水废气处理装置进行处理。

推荐的，所述酸洗桶顶端嵌套有桶帽，且桶帽与酸洗桶螺纹连接，所述酸洗桶底端嵌套有手动阀。推荐的，所述手动阀远离酸洗桶的一端嵌套有酸洗排污管，且酸洗排污管与手动阀螺纹连接，所述酸洗排污管远离手动阀的一端设有收集槽，且酸洗排污管嵌于收集槽内，且收集槽与酸洗外壳位于同一水平面。推荐的，所述酸洗外壳的顶端焊接有支架，所述支架内贯穿固定有冲洗水管，且冲洗水管位于酸洗桶的正上方。推荐的，所述酸洗外壳的侧面贯穿固定有通风管道，且通风管道的两个入口分别靠近酸洗桶的上端和下端，所述固定毛管架的底面贯穿固定有清洗排污管，且清洗排污管与防滴溅槽贯通。有着先进的设备和专业的技术。

OVD法 亦属管外生长法，原理同VAD法。在靶棒外横向生长出多孔超细粉尘预制棒。靶棒与生长出的预制棒的热膨胀系数不同，冷却后可抽出靶棒，再经脱水、烧结，就可制成透明的光纤预制棒。其示意图见图3。特点同VAD法。图3 OVD法过程示意图PCVD法 用微波等离子体使石英管内的气体氧化并沉积的预制棒制造方法。其过程见图4。在石英管的一端送入各种化学试制与载气O2，另一端用旋转真。

空泵保持一定的真空度。一个振荡频率为2.45GHz、功率为1 000W左右的环形微波谐振腔包围着石英管并以约8m/min的速度沿石英管快速移动。整个过程在一个1200℃的炉子内进行。微波能量使石英管内局部地产生非等温低压等离子体，不同种离子互相碰撞直接进行化学反应，沉积出透明玻璃薄层，沉积后的空心棒的烧缩过程如MCVD法。 这家公司的办公环境很不错的。镇江特殊光纤预制棒表面处理

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沉积是借助低压等离子使流进高纯石英玻璃沉积管内气态卤化物和氧气在大约1000℃的高温下直接沉积成设计要求的光纤芯玻璃组成。成棒则是将沉积好的石英玻璃管移至成棒用的玻璃车床上，利用氢氧焰高温作用将该管熔缩成实心的光纤预制棒芯棒。特点：适合制造包层、芯棒；原料利用率高，折射率控制很好；原料纯度要求高，沉积速度慢。③外汽相沉积法OVD流程：OVD工艺的化学反应机理为火焰水解，即所需的芯玻璃组成是通过氢氧焰或甲烷焰中携带的气态卤化物产生"粉末"逐渐地一层一层沉积而获得的。OVD工艺有沉积和烧结两个具体工艺步骤：先按所设计的光纤折射分布要求进行多孔玻璃预制棒芯棒的沉积(预制棒生长方向是径向由里向外)，再将沉积好的预制棒芯棒进行烧结处理，除去残留水份，以求制得一根透明无水份的光纤预制棒芯棒。 大型光纤预制棒表面处理修理

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