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原则上与MCVD一样,也可形成PCVD与外沉积工艺相结合的混合工艺,但迄今未见报道。目前，各种技术路线都有生产厂家在采用，所生产的光纤都能够 符合国际标准，在市场上也有一定的竞争力。随着市场对光纤产品需 求的多样性，就要求生产厂家生产不同性能的、在经济上具有竞争力 的光纤产品满足这种多样化的需求。现在市场上大量使用的普通 G.652单模光纤， 对于长途干线则采 用 G.655 光纤，局域网则采用数据光纤，但并不是任何一种工艺均能 比较好化生产所有的光纤品种。就生产 G.652 光纤而言，芯帮的外沉积 技术(DVD、VAD)优于内沉积技术(MCVD、PCVD)，外沉积技术主要 优势在于:不用价格很贵的合成石英管，沉积速率、沉积层数不会受 到衬低管直径的限制，特别有利于以高沉积速率制造大型预制棒。此 外，外沉积技术还能生产 G.652 (C)低水峰光纤。上海嘉莱环保科技有限公司具体在上海哪里。杨浦区附近哪里有光纤预制棒表面处理

又称制棒，是将SiCl4等原材料制成与光纤具有相同折射率分布，直径1～3cm的预制棒（preform）的过程。制造方法有多种，普遍采用的有：MCVD法（改进的化学汽相沉积），VAD法（汽相轴向沉积），OVD法（外部汽相沉积），PCVD法（等离子体化学汽相沉积）等。这几种方法都是立足于汽相沉积，但却有很大的差异。MCVD法 以氧气为载体的高纯度有用气体在旋转的石英管内用高温汽相氧化反应获得固相沉积物的方法，如图1所示。将高纯度气体SiCl4，GeCl4。

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通过对光纤结构的了解我们知道，光纤结构自内向外为纤芯，包层和涂覆层。光纤内部一共有两种光折射率，纤芯的折射率为n1，包层的折射率为n2，由于所掺的杂质不同，使包层的折射率略低于纤芯的折射率，即n2<n1。在石英玻璃光纤中，包层的折射率*比纤芯层的折射率略低一点，按几何光学的全反射原理，光纤就被束缚在纤芯中进行传输了。将四氯化硅等原材料制成光纤的过程。光纤制造的过程决定了光纤的机械强度、传输特性和使用寿命，对保证光纤质量十分重要。通信光纤的制造分为制棒和拉丝两道工序。

又称拉丝。由拉丝机将预制棒加高温融熔而拉成外径为125μm的光纤的过程。石英光纤拉丝机高达10m以上。把预制棒装在拉丝机顶端的加热炉中，炉温升至约2200℃时，棒体前列的粘度变低，靠自重逐渐下垂变细成为裸光纤，裸光纤通过激光测径监测仪，然后进入涂覆固化系统。涂覆的光纤经牵引辊再到卷筒上。90年代初国际上石英光纤的拉丝速度一般为300m/min，比较高可达1000m/min。其拉丝过程如图5所示。裸光纤的激光测径与牵引辊是连动的自动控制系统，可以保证裸光纤外径在范围内变动，整个拉丝车间需超净恒温，尤其是光纤涂覆以前，要避免任何尘埃的附者以免影响光纤的强度。长期从事环保行业的高级工程技术人员。

光纤预制棒的制备工艺：目前，光纤预制棒制备技术四种工艺共存，这四种工艺分别为外部气相沉积法（OVD）、气相轴向沉积法（VAD）、改良的化学气相沉积法（MCVD）。微波等离子化学气相沉积法（PCVD）。OVD制备工艺简介：OVD法即外部气相沉积法，通过特气系统将其主要原料掺杂剂（四氯化硅SiCI4或四氯化锗GeCI4等）以气态形式送入氢氧火焰喷灯，使之在氢氧焰中水解，生成石英(SiO2) 玻璃微粒粉尘，然后经喷灯喷出，沉积于由石英、石墨或氧化铝材料制作的“母棒”外表面，经过多次沉积形成一定尺寸的多孔粉尘预制棒，然后停止工作，去掉母棒，再将中空的预制棒在高温下脱水、烧结成透明的实心玻璃棒。有着多年金属表面处理的经验。山西小型光纤预制棒表面处理

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现有酸洗槽存在的问题和缺点：一、槽体设计为单层，槽体承压，一旦酸液泄露，对生产会有很大影响；二、氢氟酸的高渗透性会导致槽体焊接出现渗漏；三、静态浸泡清洗效率低，时间长，且与支架接触部分腐蚀效果差；四、石英棒被腐蚀后产生的杂质混杂在酸液中，影响酸液循环使用效果；五、氢氟酸还具有易挥发性，会对周围环境产生危害。针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种光纤预制棒卧式酸洗装置及包括其的酸洗系统，本实用新型提供的光纤预制棒卧式酸洗装置在酸洗槽内部增加了溢流功能，在内槽内部增加一块溢流挡板，酸液在内部实现循环流动，并形成紊流状态，提高了光纤预制棒的腐蚀效果。杨浦区附近哪里有光纤预制棒表面处理

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