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雨花台区推广高纯度金属材料

来源: 发布时间:2024年06月19日

高纯金属铬的特点是:主成分高(≥99.7%),杂质含量少,特别是气体氧、硫、氮含量低(C 0.025%、O 0.04%、N 0.003%、S 0.002%)。高纯金属铬主要用于电气的触头,其使用周期长,不发生打弧粘连现象;可用超级合金作添加剂生产飞机涡轮机的叶片,耐高温、抗氧化、抗振动、抗蠕变性能强;也用于做各种等离子和电子束溅喷的铬靶及电子行业的半导体、芯片等,在特色玻璃加工行业也得到广泛应用。国内高纯金属铬的生产厂家主要为沈宏公司,由于其采用的生产工艺不同,因此,其生产的金属铬中杂质硅含量较低,在0.1%以下,可以满足国内外市场对低硅金属铬的需求在高纯属生产过程中需要控制的主要杂质包括:碱金属、碱土金属、过渡族金属、放射性金属(U、Th)等。雨花台区推广高纯度金属材料

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我国电解钻的有色金属行业标准(Y5/T25522000)*要求分析C、S、Mn、Fe、Ni、Cu、As、Pb、Zn、Si、Cd、Mg、P、Al、Sn、Sb、Bi等17种杂质元素,co999s电解钻的杂质总量不超过0.02%,但这仍然不能满足功能薄膜材料材料的要求。高纯金属中痕量元素的检测方法应具有极高的灵敏度。痕量元素的化学分析是指1g样品中含有微克级(10g/g)、纳克级(10g/g)和皮克级(10g/g)杂质的确定。随着对高纯金属材料研究的深入,杂质元素的含量越来越低普通的滴定分析等己无法准确测定痕量元素,因此促进了分析检测仪器技术不断发展,痕量、超痕量多元素的同时或连续测定已成为可能。雨花台区推广高纯度金属材料一般承接的都是工装建筑工程比较多。

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电感耦合等离子体原子发射光谱法(InduetivelyCoupledplasmaAtomieEmissionSepcotrmetyr,ICP-AES)是根据不同元素的原子或离子在热激发或电激发下发射特征电磁辐射进行元素定性或定量检测的方法。随着ICP(电感祸合等离子体)光源技术的发展,ICP-AES己成为痕量元素分析检测***的手段之一,目前己广泛应用于半导体工业、新材料、高纯试剂、医学检测等众多行业中,在高纯金属分析检测领域也有着广泛的应用。ICP-AES法具有以下优点:(1) ICP-AES法可同时测定多个元素;(2) ICP-AES法测量的线性范围可达5-6个数量级,可以同时完成样品中常量、微量以及痕量杂质的测定;(3) ICP-AES法稳定性和测量精度良好,其分析精度可与湿式化学法媲美,且检出限较低,大多数元素的检出限可低于1mg/L;(4) ICP-AES法分析测试成本较低。

金属的纯度是相对于杂质而言的,广义上杂质包括化学杂质(元素)和物理杂质(晶体缺陷)。物理杂质主要是指位错及空位等,而化学杂质是指基体以外的原子以代位或填隙等形式掺入。但只有当金属纯度达到很高的标准时(如纯度9N以上的金属),物理杂质的概念才是有意义的,所以生产上一般以化学杂质的含量作为评价金属纯度的标准,即以主金属减去杂质总含量的百分数表示,常用N(nine的***个字母)**,如99.9999%写为6N,99.99999%写为7N。目前高纯金属纯度的表示方式主要有两种:一种是以材料的用途来表示,如“光谱纯”、“电子级纯”等;另一种是以某种特征来表示,例如半导体材料用载流子浓度,即1立方厘米的基体元素中起导电作用的杂质个数来表示,而金属主要用剩余电阻率RRR和纯度级R表示纯度。有谁听过江阴赛福电子材料有限公司的。

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ICP-AES的不足之处在于:(1) ICP-AES法的光谱干扰较严重,谱线与谱图也较为复杂;(2) ICP-AES法的检出限还不够低,不能完全满足4N及其以上高纯金属的分析测试需要;(3)ICP-AES法采用液体溶样进样方式,容易带入污染;(4) ICP-AES法的基体干扰较严重,特别是许多高纯样品的分析测试需要分离基体,使得整个分析测试过程较为繁琐。虽然ICP-AES法直接检测较高纯度的高纯金属中痕量杂质元素目前还有一定困难,但其仍然是高纯金属杂质元素测定**常用的方法之一。目前通过将微柱分离、电热蒸发(ETV)、超声雾化等技术与ICP-AES联用,能满足部分高纯样品的分析测试需要有机化合物:有机化合物含碳的化合物(但含碳的化合物不一定是有机物)。雨花台区推广高纯度金属材料

度要求更高的金属 (其中杂质含量甚至降至十亿分之一以下) 称为 “超纯金属”。雨花台区推广高纯度金属材料

纯度很高、 所含杂质常以百万分之几计算的金属。由于它们的性能与一般工业纯金属***不同,因而获得了特殊用途。例如制备半导体材料用的锗、铟、镓等金属要 求达到99.999%以上的纯度。高纯金属还大量用于科研领域。纯度要求更高的金属 (其中杂质含量甚至降至十亿分之一以下) 称为 “超纯金属”。高纯金属(iHhgPuriytMetals)是现代多种高新技术的综合产物。随着半导体技术、宇航、无线电科技等的发展,对金属纯度要求越来越高,也**促进了高纯金属生产的发展。因为在金属未能达到一定纯度的情况下,金属特性往往会被杂质所掩盖,所以痕量杂质甚至超痕量杂质的存在都会影响金属的性能。例如过去钨曾被用作灯泡的灯丝,由于脆性而使处理上有困难,但在适当提纯之后,这种缺点即可以克服(钨丝也有掺杂及加工问题)。雨花台区推广高纯度金属材料

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