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浙江推广高纯度金属材料

来源: 发布时间:2024年04月24日

碘化精炼法碘化精炼法的原理是在真空密闭容器中,碘在较低温度下与被提纯金属发生反应,生成挥发性碘化物,这些碘化物扩散到较高温度的母丝上离解成金属和碘,金属沉积在炽热母丝上,使母丝长大, 碘返回原料区继续与原料金属反应,碘起“搬运工” 作用,过程反复进行。碘化精炼法可以有效的除去不与碘反应的杂质,如金属中的氧化物、碳化物、氮化物等,与碘反应但不生成挥发性碘化物的杂质,以及与碘反应但高温下不分解的杂质。电子束熔炼法除上述熔盐电解和碘化精炼方法外,还可以采用电子束熔炼法提纯金属铪。电子束熔炼是在高真空下,利用高速电子束流轰击金属端面,高速电子束流的动能转换为热能使金属熔化,并通过调节功率 和熔炼速率使熔池保持较高的温度,在高温高压下使熔体充分发生脱气。当金属纯度提高以后,也能进一步明确杂质对金属性能的影响。浙江推广高纯度金属材料

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我国电解钻的有色金属行业标准(Y5/T25522000)*要求分析C、S、Mn、Fe、Ni、Cu、As、Pb、Zn、Si、Cd、Mg、P、Al、Sn、Sb、Bi等17种杂质元素,co999s电解钻的杂质总量不超过0.02%,但这仍然不能满足功能薄膜材料材料的要求。高纯金属中痕量元素的检测方法应具有极高的灵敏度。痕量元素的化学分析是指1g样品中含有微克级(10g/g)、纳克级(10g/g)和皮克级(10g/g)杂质的确定。随着对高纯金属材料研究的深入,杂质元素的含量越来越低普通的滴定分析等己无法准确测定痕量元素,因此促进了分析检测仪器技术不断发展,痕量、超痕量多元素的同时或连续测定已成为可能。浙江推广高纯度金属材料有着先进的设备和专业的技术。

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高纯金属材料的纯度一般使用差减法计算。差减法计算的杂质元索主要是金属杂质元素,并不包括C、O、N、H等间隙元索。但事实上,间隙元素的含量也是高纯金属材料分析检测的重要指标,一般需要单独列出。所以通常几个“9”(N的高纯金属,并不能真正地表达纯度,只有提供杂质元素和间隙元素的种类及其含量才能明确表达高纯金属的纯度水平。在高纯属生产过程中需要控制的主要杂质包括:碱金属、碱土金属、过渡族金属、放射性金属(U、Th)等。高纯金属材料化学分析是从高纯金属材料中获取化学组成、存在形态和信息的技术,为工业科技和生产服务,也是衡量工业科技和生产水平的重要标志。所以高纯金属的纯度检测应当以实际应用需要作为主要标准。例如目前工业电解钻的纯度一般接近99.99%,而且检测的杂质元素种类较少。

电感耦合等离子体原子发射光谱法(InduetivelyCoupledplasmaAtomieEmissionSepcotrmetyr,ICP-AES)是根据不同元素的原子或离子在热激发或电激发下发射特征电磁辐射进行元素定性或定量检测的方法。随着ICP(电感祸合等离子体)光源技术的发展,ICP-AES己成为痕量元素分析检测***的手段之一,目前己广泛应用于半导体工业、新材料、高纯试剂、医学检测等众多行业中,在高纯金属分析检测领域也有着广泛的应用。ICP-AES法具有以下优点:(1) ICP-AES法可同时测定多个元素;(2) ICP-AES法测量的线性范围可达5-6个数量级,可以同时完成样品中常量、微量以及痕量杂质的测定;(3) ICP-AES法稳定性和测量精度良好,其分析精度可与湿式化学法媲美,且检出限较低,大多数元素的检出限可低于1mg/L;(4) ICP-AES法分析测试成本较低。对贵金属而言,用中子活化分析灵敏度高的是Ir、Au和Rh。

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中子活化分析法中子活化分析(NAA)的灵敏度高,准确度好,污染少,适用于高纯金属、地质样品、宇宙物质液体、固体等各类样品中超痕量金属的测定。特别是NAA的无损分析特性消除了多数其它痕量分析方法中可能破坏溯源链的**危险的环节一样品制备和溶解过程中可能带来的待测元素的污染或丢失。由于活化之后的放化操作可以加入载体和反载体以克服“**浓”行为和无需定量分离,因此由样品处理引起的污染和丢失危险远远低于其它方法。在约10n·cm·s的通量下,NAA从可测定周期表中的绝大多数元素,测定范围为1010g/g。NAA是目前***能够同时测定Cl、Br、I的***方法。为克服基体效应,进行预富集与方法分离对于NAA法也是非常必要的。如半导体材料中称9N以上为高纯,而难熔金属达6N己属超高纯。锡山区防爆高纯度金属材料

高纯金属材料的纯度一般使用差减法计算。浙江推广高纯度金属材料

高纯金属铬的特点是:主成分高(≥99.7%),杂质含量少,特别是气体氧、硫、氮含量低(C 0.025%、O 0.04%、N 0.003%、S 0.002%)。高纯金属铬主要用于电气的触头,其使用周期长,不发生打弧粘连现象;可用超级合金作添加剂生产飞机涡轮机的叶片,耐高温、抗氧化、抗振动、抗蠕变性能强;也用于做各种等离子和电子束溅喷的铬靶及电子行业的半导体、芯片等,在特色玻璃加工行业也得到广泛应用。国内高纯金属铬的生产厂家主要为沈宏公司,由于其采用的生产工艺不同,因此,其生产的金属铬中杂质硅含量较低,在0.1%以下,可以满足国内外市场对低硅金属铬的需求浙江推广高纯度金属材料

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