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HSL-5000激光性价比

来源: 发布时间:2023年06月16日

掩模版激光都有哪些种类?

普通版:一般使用苏打玻璃或者石英,常见2寸到10寸,线宽一般在1um以上,主要用户接触式曝光机,转移图形与版图尺寸为1:1,实现同比例的图形转移。

Stepper版:一般使用石英版,常见为5寸和6寸版,线宽一般在500nm以上,主要用于Stepper曝光机台,转移图形与版图尺寸实际比例一般是4:1或者5:1,实现将版图图形缩小4~5倍之后投射于目的片上。

纳米压印版:一般用石英版,刻蚀其表面的金属形成沟槽和透光不透光的组合,尺寸一般需要5寸及以上,采用电子束直写的技术实现表面nm图形的转移,一般线宽在200~800nm左右,借助掩模版对光刻胶的压力、同时辅助紫外曝光,实现纳米级图形的转移。

金属掩模版:一把采用不锈钢,在不锈钢表面通过激光加工的方式,实现表面镂空的图形设计,线宽一般要20um,能够用于电子束蒸发、磁控溅射中,用于电极图形的转移。 激光微加工系统的主要功能;HSL-5000激光性价比

常见、有代表性的激光应用之激光光源:如,用半导体激光合成白光光源。

常见、有代表性的激光应用之激光通信:激光大气通信的发送设备主要由激光器(光源)、光调制器、光学发射天线(透镜)等组成;接收设备主要由光学接收天线、光检测器等组成。

常见、有代表性的激光应用之激光笔:是把可见激光设计成便携、易握的笔型发射器。常见有红光(650-660nm, 635nm)、绿光(515-520nm, 532nm)、蓝光(445-450nm)和蓝紫光(405nm)等,功率常以毫瓦为单位。会报、教学、导赏人员会使用它投映出光点或光线指向物体,不可对人,尤其需注意人眼防护。 成都激光失效分析激光应用之激光成型;

激光微加工特点介绍:

(1)范围广:几乎可以对任何材料进行雕刻切割。(2)安全可靠:采用非接触式加工,不会对材料产生机械挤压或机械应力.(3)精确细致;加工精度可达0.01mm.(4)效果一致:保证同一批次的加工效果一致.(5)高速快捷:可立即根据电脑输出的图样进行高速雕刻和切割,且激光切割的速度比线切割的速度要快很多.(6)成本低廉:不受加工数量的限制,对于小批量加工服务,激光加工更加便宜。(7)切割缝隙小:激光切割的割缝一般在0.02mm-0.05mm.(8)切割面光滑:激光切割的切割面无毛刺。(9)热变形小;激光加工的激光割缝细、速度快、能量集中,因此传到被切割材料上的热量小,引起材料的变形也非常小。

激光微加工形成方式:一是使用红外激光:将材料表面的物质加热并使其汽化(蒸发),以除去材料,这种方式通常被称为热加工.主要采用YAG激光(波长为1.06μm)。二是使用紫外激光:高能量的紫外光子直接破坏许多非金属材料表面的分子键,使分子脱离物体,这种方式不会产生高的热量,故被称为冷加工,主要采用紫外激光(波长为355nm).

激光打标机常见的五种故障分析:

激光打标机出现问题的时候,如果不能及时解决问题将会影响到产品的交付时间,虽然激光打标机的维修是比较麻烦的,但是它的原理是较简单的,有很多问题是可以自行解决而不需要专业技术人员维修的,下面就是激光打标机常见的五种故障。

1.激光打标机的标识图案发白解决方法:检查模压速度是否太慢、模压温度是否太高。

2.激光打标机的标识图案局部不清晰解决办法:检查模压版的厚度是否均匀,模压压力是否太小,温度是否过低,机器精度是否下降。工艺控制要点:模压版厚度误差应控制在0.O01mm以内,硬度应保持在230—280N/mm。因为全息图是通过给模压辊施加一定的压力而模压出干涉条纹,如果模压版的硬度不够,在压印的过程中内应力会使模压版变形或损坏。 超快激光精细微加工!

由于激光微加工技术是用于透明材料的一种新的制造技术,因此可以预见微加工技术应用于意想不到的领域。从掌上型和可穿戴式显示器到通信和计算系统,光子设备现已遍及全球。制造光子器件必不可少的材料是透明材料,例如玻璃,聚合物和晶体,我们通常希望它们具有透明和宽带的透明性,稳定性以及多种成分。聚焦的超快激光脉冲会在这些透明材料中引起非线性吸收效应,从而使我们能够在材料的表面或内部进行微加工。这种被称为超快激光微加工的技术已经有了多种应用,例如切割、钻孔、波导耦合器和分路器的直接写入、光学动态记忆,甚至玻璃和玻璃、玻璃和金属或玻璃和陶瓷之间界面的焊接或接合技术。激光钻孔加工技术方法;成都激光失效分析

大功率半导体激光器;HSL-5000激光性价比

光刻掩膜版质量的优劣直接影响光刻的质量。在芯片制造过程中需要经过十几甚至几十次的光刻,每次光刻都需要一块光刻掩膜版,每块光刻掩膜版的质量都会影响光刻的质量。光刻过程中,通常通过一系列光学系统,将掩膜版上的图形按照 4:1 的比例投影在晶圆上的光刻胶涂层上。由于在制作过程中存在一定的设备或工艺局限,光掩膜上的图形并不可能与设计图像完全一致,即在后续的硅片制造过程中,掩膜板上的制造缺陷和误差也会伴随着光刻工艺被引入到芯片制造中。因此光掩膜的品质将直接影响到芯片的良率和稳定性。


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