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MLED激光去层

来源: 发布时间:2023年05月05日

揭秘0.1mm激光钻孔:

随着电子产品的不断升级,企业对PCB工艺的要求越来越高,而且由于结构空间原因,希望PCB的体积越小越好,这又进一步对工艺发展提出了新要求。因此,PCB工艺正变得越来越复杂,钻孔就是其中一道难题。

一、0.1mm的钻孔,为什么做不了?很多工程师看到板厂的工艺能力写着小孔0.1mm时,便把PCB设计中的孔改到0.1mm,以解决线路布局空间不足的问题。但当他们把设计文件发给板厂打板时,却收到板厂反馈这孔做不了!怎么回事呢?其实这里有个误区——不是所有的板都能做0.1mm的钻孔。0.1mm是很小的孔,采用机械钻的时候,容易断刀,目前比较小的机械钻是0.15mm,低于0.15mm的孔需要采用激光钻。但激光钻孔有个前提条件,就是板子的介质厚度只能是0.127mm以内,大于这个厚度就无法激穿。因此,板子之所以不能做0.1mm的孔,不是因为板厂做不了,是因为设计的板子太厚了。 掩模版用于芯片的批量生产;MLED激光去层

常见、有代表性的激光应用之激光雷达:激光雷达用激光器作为辐射源,是激光技术与雷达技术相结合的产物 。由发射机 、天线 、接收机 、跟踪架及信息处理等部分组成。发射机是各种形式的激光器,如二氧化碳激光器、掺钕钇铝石榴石激光器、半导体激光器及波长可调谐的固体激光器等;天线是光学望远镜;接收机采用各种形式的光电探测器,如光电倍增管、半导体光电二极管、雪崩光电二极管、红外和可见光多元探测器件等。激光雷达采用脉冲或连续波2种工作方式,探测方法分直接探测与外差探测。 激光头激光应用之激光清洗;

微纳加工-激光掩模版的作用:

光刻掩模版,别称“掩模版”、“光刻板”、“光罩”、“遮光罩”,一般使用玻璃或者石英表面覆盖带有图案的金属图形,实现对光线的遮挡或透过功能,是微电子光刻工艺中的一个工具或者板材。我们利用光罩可以实现微电子工艺中的图形传递。光刻掩模版的加工技术主要有两种:其一为激光直写技术;其二为电子束直写部分,两种技术区别在于光源不同,实现的精度有所区别。掩模版是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形,光线透过它,把设计图形透射在光刻胶上,掩膜版的功能类似于传统照相机的“底片”。我们可以通过把图形做在掩模版上通过下一步曝光工艺(下期讲解)转移到我们的基底上,基底上有对应的相关图形了,但是通过曝光基底上还没有刻上图形,只是光刻胶有了相关图形。光刻胶的是一种对光敏感的材料,通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化。有可能会变容易溶解也可能变得不容易,这时候再通过显影液,不稳定的部分将会被处理掉,剩下的就是我们想要的图形。

超快激光可用于微加工多种材料:金属、聚合物、半导体、透明材料等。然而,材料的性质,尤其是光学和热学性质,需要选择合适的激光参数进行修改。要在材料上进行超快激光微加工,必须选择合适的激光操作参数,例如:激光波长、重复率、激光功率、扫描通量、脉冲持续时间、偏振、束斑尺寸和质量。

超快激光脉冲微加工的一个明显特征是透明材料的内部微加工。当近红外超快激光脉冲聚焦在玻璃体内时,焦点体积中的强度变得足够高以引起非线性吸收,这导致焦点体积中玻璃的局部改变 超快激光玻璃微加工。

常见、有代表性的激光应用之激光光源:如,用半导体激光合成白光光源。

常见、有代表性的激光应用之激光通信:激光大气通信的发送设备主要由激光器(光源)、光调制器、光学发射天线(透镜)等组成;接收设备主要由光学接收天线、光检测器等组成。

常见、有代表性的激光应用之激光笔:是把可见激光设计成便携、易握的笔型发射器。常见有红光(650-660nm, 635nm)、绿光(515-520nm, 532nm)、蓝光(445-450nm)和蓝紫光(405nm)等,功率常以毫瓦为单位。会报、教学、导赏人员会使用它投映出光点或光线指向物体,不可对人,尤其需注意人眼防护。 大功率半导体激光器;MLED激光去层

激光掩膜版是芯片制造过程中的图形“底片”;MLED激光去层

在芯片制造中,光刻是至关重要的一个环节,这是将设计好的芯片版图转移到晶圆上的过程,类似于胶片相机中的胶卷曝光后,利用底片进行洗制照片的过程。一个底片可以洗出来很多照片,一样的道理,通过芯片版图,就是要复制出来很多芯片,只是这个过程要比洗相片复杂繁琐太多。芯片版图,也称为光刻掩膜版,或者是光罩、掩膜版,是决定芯片造价成本的关键,一般来说,一个芯片生产线,所需要的大致设备、材料都是类似的,只是随着芯片制程工艺的不断提升,所需要的设备精密度越高,而材料纯度也是越高,这些都会导致生产成本的不断提升,不过,上升快的则是光刻掩膜版所带来的成本。MLED激光去层

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