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来源: 发布时间:2024年04月14日

优点:A.空气处理效果较好的,处理过后的空气在送风过程中被污染程度低。送风的温度、湿度控制效果可以达到较好的控制。主要在空气处理机组(增压风柜)里进行控制;B.布置灵活。自带冷源;C.大小厂房、新旧厂房都适用;D.维修频率较低;E.车间噪音低。缺点:A.需要小面积的机房。需要有冷却塔 [1]  、冷却水泵的摆放位置;B.空调机组与空调处理机组要集中布置;C.造价较低。特点:这种方案可以是一次回风也可以是二次回风,具体根据车间的大小情况而定;这类方案一般可以适用于洁净度为千级、万级、十万级等的净化无尘厂房。单向流室内的送风量是紊流室的很多倍(10到100倍)。普陀区质量园区净化工程供应商

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但在一个操作间,机器以及机器周围走动的人员,会对气流形成障碍。障碍物可以使单向流变成紊流,从而在障碍物周围形成气流团。人员的活动也可以使单向流变成紊流。在这些紊流中,由于风速较低,空气稀释程度较小,从而使得污染浓度较高。因此,必须将风速保持在0.3米/秒至0.5米/秒(60英尺/分钟至100英尺/分钟)的范围里,以便使中断的单向流能快速恢复,充分稀释障碍物周围紊流区的污染。用风速可以正确地表示出单向流,因为风速越高室内就越洁净。而每小时换气次数与房间的体积有关,如吊顶的高低,因此不适合用来表示单向流。单向流室内的送风量是紊流室的很多倍(10到100倍)。黄浦区品牌园区净化工程哪里买压力差的维持依靠新风量,这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。

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洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜超过25度,湿度过高产生的问题更多。

一般情况下,净化空调系统的能耗比一般空调系统的能耗大的多。其原因是两者之间的负荷特点不同。就洁净室,尤其是半导体工业洁净室而言,其负荷特点是:由于排风量大造成新风量大,故新风处理所需冷量消耗大;送风量大,输送动力消耗大,风机管道温升高;生产设备的发热量大,消耗冷量大。这三项负荷之和一般占总负荷的70%~95%。因此,净化空调系统节能措施应从减少新风量(减少排风量);控制送风量(合理确定换气次数);充分利用回风量;选择低阻力高效率的空调和净化设备和可变风量的风机等入手。缺点:建造费用比乱流式高,室内空间不易扩充。

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光学微电子净化工程解决方案:净化工程的设计过程中,应加强对光学微电子行业净化工程设计方案分析了解,根据该工程是新建工程或者是旧厂房改造工程,并结合其具体的生产工艺、生产流程等要求确定其需要的洁净度、温湿度。再根据该工程的具体情况,同时还要考虑到生产厂家的经济承受能力,综合各种因素来确定采用何种净化方案,这样才可设计出一个能满足甲方生产使用要求、工程造价合理、经济节能实用的方案。1、组合式空气处理机组+冷水机组+高效送风口这是一个传统的净化空调系统的设计方案。组合式空气处理机组里含有各种功能段,如混合段、初效过滤段、表冷段、二次回风段(或中间段)、加热段、加湿段、中效过滤段、风机段等。其冷源由冷水机组提供。另外若系统停止运转再,欲达需求之洁净度,往往须耗时相当长一段时间。黄浦区品牌园区净化工程哪里买

这就决定乱流洁净室的流态实质是:突变流;非均匀流。普陀区质量园区净化工程供应商

相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以。相对湿度越高,粘附的越难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产湿度范围为35—45%。气压规定对于大部分洁净空间,为了防止外界污染侵入,需要保持内部的压力(静压)高于外部的压力(静压)。压力差的维持一般应符合以下原则:普陀区质量园区净化工程供应商

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