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水处理剂双氧水稳定剂羟基亚乙基二膦酸

来源: 发布时间:2023年10月21日

上海望界水处理双氧水稳定剂-螯合剂-双氧水稳定剂。普遍用于世界上各大行业应用中,包括:水处理、家用、和工业洗涤剂、工业清洁剂、提高油田彩收率,以及各种工业工艺,比如脱盐、纸浆生产和漂白、纺织等。 DEQUEST®2010-HEDP 化学名:1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸。过氧化氢和过氧乙酸消毒剂,也会因金属离子的存在而发生过快分解,DEQUEST 2010可有效抑止这种分解。 各类化妆品因过渡金属离子的存在而发生变色、变质的问题,烫发类产品中所含有的过氧化物,由于金属离子的存在而发生过快分解,甚至在使用中导致毛发的损伤。TURPINAL系列产品可有效提升包括染发产品在内的化妆品的稳定性,使用更安全。螯合剂-双氧水稳定剂DEQUEST 2010上海望界!水处理剂双氧水稳定剂羟基亚乙基二膦酸

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DEQUEST®系列产品具有良好的螯合和分散作用,以及很好的分解性。 用洗涤剂产品中,含有磷或聚丙烯酸类螯合分散剂。这类洗涤剂的生产及其生活污水,会对地表水和江、河、海水系造成污染。在洗涤中的作用是使水软化、分散和抗垢,并可防止洗落的油垢重新沾污。 DEQUEST®2010-HEDP-双氧水稳定剂-双氧水稳定剂 化学名:1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸。过氧化氢和过氧乙酸消毒剂,也会因金属离子的存在而发生过快分解,DEQUEST 2010可有效抑止这种分解。 DEQUEST稳定剂系列次氯酸钠(84类)消毒剂因多种因素,在储运和使用过程中,容易过快分解,发生所谓的涨瓶现象,DEQUEST 6004可有效抑止因重金属离子而引起的过快分解。水处理剂双氧水稳定剂羟基亚乙基二膦酸双氧水稳定剂-螯合剂羟基亚乙基二膦酸TURPINAL 4NL-望界供!

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Dequest系列产品在H2O2等氧化剂中,可以稳定存在,,螯合能力可以继续保持。 Dequest 2010产品介绍: ·化学成分: 1-Hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid ·分子式:C2H8O7P2 ·分子量:206.03 ·外观:无色(或微黄)透明液体 ·特性:优异的阻垢、螯合性能,用作双氧水稳定剂 过氧化氢和过氧乙酸消毒剂,会因金属离子的存在而发生过快分解,而DEQUEST 2010可有效抑止这种分解。产品英国进口原包装,品质保证,详情来点咨询: DEQUEST稳定剂系列次氯酸钠(84类)消毒剂因多种因素,在储运和使用过程中,容易过快分解,发生所谓的涨瓶现象,DEQUEST 6004可有效抑止因重金属离子而引起的过快分解。

上海望界染发剂稳定剂-螯合剂Turpinal系列: 各类化妆品因过渡金属离子的存在而发生变色、变质的问题,烫发类产品中所含有的过氧化物,由于金属离子的存在而发生过快分解,甚至在使用中导致毛发的损伤。TURPINAL系列产品可有效提升包括染发产品在内的化妆品的稳定性,使用更安全。 Turpinal: 用于个人洗护配方的螯合剂 Turpinal = 依替膦酸( Etidronic acid)或依替膦酸盐 Turpinal 包含C-P 官能团 Turpinal 拥有:优良的水解稳定性,很高的热稳定性,完全的水溶性,极强的离子螯合力 Turpinal 系列产品有非常严格的生产控制! 产品包括:TURPINAL SL,TURPINAL 4NL,TURPINAL 4NP。双氧水稳定剂-伊塔玛DEQUEST 2010 望界供;

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Turpinal: 用于个人洗护配方的螯合剂 Turpinal = 依替膦酸( Etidronic acid)或依替膦酸盐 Turpinal 包含C-P 官能团 Turpinal 拥有:优良的水解稳定性,很高的热稳定性,完全的水溶性,极强的离子螯合力 Turpinal 系列产品有非常严格的生产控制! 产品包括:TURPINAL SL,TURPINAL 4NL,TURPINAL 4NP。 Turpinal生产制造过程是依托于精心挑选的原料和严格管理控制的作业条件;所有Turpinal产品严格受控于ISO9000和 ISO14000认证体系;英国新港工厂已得到“ 环境管理体系认证 ,BS 7750” 认证。双氧水稳定剂TURPINAL 4NP厂家直销-上海望界双氧水稳定剂;水处理剂双氧水稳定剂羟基亚乙基二膦酸

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双氧水稳定剂-伊塔玛DEQUEST 2010螯合作用: ·分子结构中存在多个膦酸配位基团,使得Dequest®系列产品有良好的螯合功能。 ·膦酸分子与多种重金属,过渡金属结合,能够形成稳定的,水溶性复合物 ·对各种金属离子有很好的螯合能力(Ca,Mg,Fe,Cu,Mn,Al,…) Dequest®产品与常见螯合剂比较: 羧酸类螯合剂包括EDTA,DTPA,NTA,在H2O2,漂白水等氧化剂存在的情况下,会被氧化,从而失去螯合能力。 Dequest系列产品在H2O2等氧化剂中,可以稳定存在,,螯合能力可以继续保持。水处理剂双氧水稳定剂羟基亚乙基二膦酸