广东省科学院半导体研究所
在进行材料刻蚀时,保证刻蚀的均匀性和一致性是非常重要的,因为这直接影响到器件的性能和可靠性。以下是一些常用的方法来实现这个目标:1...
等离子刻蚀是将电磁能量(通常为射频(RF))施加到含有化学反应成分(如氟或氯)的气体中实现。等离子会释放带正电的离子来撞击晶圆以去...
半导体技术快速发展:因为需求量大,自然吸引大量的人才与资源投入新技术与产品的研发。产业庞大,分工也越来越细。半导体产业可分成几个次...
在微细加工中,刻蚀和清洗处理过程包括许多内容。对于适当取向的半导体薄片的锯痕首先要机械抛光,除去全部的机械损伤,之后进行化学刻蚀和...
材料刻蚀的速率是指在特定条件下,材料表面被刻蚀的速度。刻蚀速率与许多因素有关,包括以下几个方面:1.刻蚀介质:刻蚀介质的性质对刻蚀...