SmartNIL是一项关键的启用技术，可用于显示器，生物技术和光子应用中的许多新创新。例如，SmartNIL提供了****的全区域共形压印，以便满足面板基板上线栅偏振器的**重要标准。SmartNIL还非常适合对具有复杂纳米结构的微流控芯片进行高精度图案化，以支持下一代药 物研究和医学诊断设备的生产。此外，SmartNIL的***发展为制造具有比较高功能，**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度，这对于实现衍射光学元件（DOE）至关重要。 特征： 体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度 专有SmartNIL ®技术，多使用聚合物印模技术 经过生产...

IQ Aligner®：用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统 ■用于光学元件的微成型应用 ■用于全场纳米压印应用 ■三个**控制的Z轴，用于控制压印光刻胶的总厚度变化（TTV），并在压模和基材之间实现出色的楔形补偿 ■粘合对准和紫外线粘合功能 紫外线压印_紫外线固化 印章 防紫外线基材 附加印记压印纳米结构分离印记 用紫外线可固化的光刻胶旋涂或滴涂基材。随后，将压模压入光刻胶并在仍然接触的情况下通过UV光交联。 µ-接触印刷 软印章 基板上的材料 领取物料，物料转移，删除印章 EV...

IQ Aligner UV-NIL 自动化紫外线纳米压印光刻系统 应用：用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统 IQ Aligner UV-NIL系统允许使用直径从150 mm至300 mm的压模和晶片进行微成型和纳米压印工艺，非常适合高度平行地制造聚合物微透镜。该系统从从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始，提供了混合和整体式微透镜成型工艺，可以轻松地将其与工作图章和微透镜材料的各种材料组合相适应。此外，EV Group提供合格的微透镜成型工艺，包括所有相关的材料专业知识。EV Group专有的卡盘设计可为高产量大面积印刷提供均匀的接触力。配置包括从压印基材上释放印章的释...

SmartNIL是行业**的NIL技术，可对小于40 nm *的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景，即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本，大批量替代光刻技术。 注：*分辨率取决于过程和模板 如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG是纳米压印光刻（NIL）的市场**设备供应商。四川纳米压印厂家 EVG610特征： 顶部和底部对...

HERCULES ® NIL完全模块化和集成SmartNIL ® UV-NIL系统达300毫米 结合EVG的SmartNIL一个完全模块化平台®技术支持AR / VR，3D传感器，光子和生物技术生产应用 EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的跟 踪系统，将清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG专有的SmartNIL大面积纳米压印光刻（NIL）工艺结合在一个平台上，用于直径比较大为300 mm的晶圆。它是***个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统，可为客户提供比较大的自由度来配置他们的系统，以比较好地满足其生产需求，包括200 ...

EV Group的一系列高精度热压花系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积上的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术，具有非常高的复制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高长宽比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。 NILPhotonics®能力中心-支持和开发 NILPhotonics能力中心是经过验证的创新孵化器。 欢迎各位客户来样制作，验证EVG的纳米压印设备的性能。 EVG®770可用于连续重复的纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作。掩模对...

HERCULES NIL 300 mm提供了市场上**的纳米压印功能，具有较低的力和保形压印，快速的高功率曝光和平滑的压模分离。该系统支持各种设备和应用程序的生产，包括用于增强/虚拟现实（AR / VR）头戴式耳机的光学设备，3D传感器，生物医学设备，纳米光子学和等离激元学。 HERCULES ® NIL特征： 全自动UV-NIL压印和低力剥离 **多300毫米的基材 完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理） 200毫米/ 300毫米桥接工具能力 全区域烙印覆盖 批量生产**小40 nm或更小的结构 支持各种结构...

通过中心提供的试验生产线基础设施，WaveOptics将超越其客户对下个季度的预期需求，并有一条可靠的途径将大批量生产工艺和设备转移至能够大规模生产波导的指定设施适用于全球前列OEM品牌。 WaveOptics与EVG的合作突显了其致力于以可实现的价格提供高性能，商用波导来帮助客户将AR显示器推向市场的承诺。利用EVG在批量生产设备和工艺技术方面的专业知识，到2019年，AR终端用户产品将以不到600美元的价格进入市场，这是当今行业中的*低价位。 SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现****的吞吐量。中芯国际纳米压印应用 E...

纳米压印光刻（NIL） -SmartNIL ® 用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺 介绍： EVG是纳米压印光刻（NIL）的市场**设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年，掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究，开发和现场经验进行了优化，以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。 如果要获得详细信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司或者访问官网。 EVG ® 520 HE是热压印系统。高校纳米压印学校会用吗 HER...

EVG ® 770特征： 微透镜用于晶片级光学器件的高 效率制造主下降到纳米结构为SmartNIL ® 简单实施不同种类的大师 可变抗蚀剂分配模式 分配，压印和脱模过程中的实时图像 用于压印和脱模的原位力控制 可选的光学楔形误差补偿 可选的自动盒带间处理 EVG ® 770技术数据： 晶圆直径（基板尺寸）：100至300毫米 解析度：≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：柔软的UV-NIL 曝光源：大功率LED（i线）> 100 mW /cm² 对准：顶侧显微镜，用于实时重叠校准≤±500 n...

对于压印工艺，EVG610允许基板的尺寸从小芯片尺寸到比较大直径150 mm。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括用于印章的释放机构。EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的压印，该卡盘支持软性和硬性印模。 EVG610特征： 顶部和底部对准能力 高精度对准台 自动楔形误差补偿机制 电动和程序控制的曝光间隙 支持***的UV-LED技术 **小化系统占地面积和设施要求 分步流程指导 远程技术支持 多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言） 敏...

EVG ® 6200 NT是SmartNIL UV纳米压印光刻系统。 用UV纳米压印能力设有EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统®技术范围达150m。这些系统以其自动化的灵活性和可靠性而著称，以**小的占地面积提供了** 新的掩模对准技术。操作员友好型软件，**短的掩模和工具更换时间以及高 效的全球服务和支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的Sm...

EVG ® 770分步重复纳米压印光刻系统 分步重复纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作 EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从** 大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合，分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。 EVG770的主要功能包括精确的对准功能，完整的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。 EV Group 提供完整的UV 紫外光...

曲面基底上的纳米结构在许多领域都有着重要应用，例如仿生学、柔性电子学和光学器件等。传统的纳米压印技术通常采用刚性模板，可以实现亚10nm的分辨率，但是模板不能弯折，无法在曲面基底上压印制备纳米结构。而采用弹性模板的软压印技术可以在无外界提供压力下与曲面保形接触，实现结构在非平面基底上的压印复制，但是由于弹性模板的杨氏模量较低，所以压印结构的分辨率和精度都受到限制。基于目前纳米压印的发展现状，结合传统的纳米压印技术和软压印技术，中国科学院光电技术研究所团队发展了一种基于紫外光固化巯基-烯材料的亚100nm分辨率的复合软压印模板的制备方法，该模板包含刚性结构层和弹性基底层。（来自网络，侵权请联...

UV-NIL / SmartNIL 纳米压印系统 EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻（UV-NIL）提供完整的产品线，包括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高 效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL，EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高 效，强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度，高度均匀的图案层和**少的残留层，并具有易于调整的晶圆尺寸和产量。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期承诺，即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能，低成本和具有批量生产能力的技术。 这个系列的型号包括：EV...

客户示范 ■工艺开发 ■材料测试 ■与合作伙伴共同研发 ■资助项目 ■小批量试生产 ■IP管理 ■过程技术许可证 ■流程培训 →世界前列的洁净室基础设施 →**的设备 →技术** →**计量 →工艺知识 →应用知识 →与NIL的工作印模材料和表面化学有关的化学专业知识 新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案，并在显示器，生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。 岱美作为EVG在中国区的代理商，欢...

EVG ® 770分步重复纳米压印光刻系统 分步重复纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作 EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从** 大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合，分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。 EVG770的主要功能包括精确的对准功能，完整的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。 EVG的SmartNIL技术是基于紫外线...

纳米压印应用二：面板尺寸的大面积纳米压印 EVG专有的且经过大量证明的SmartNIL技术的***进展，已使纳米图案能够在面板尺寸比较大为Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上实现。对于不能减小尺寸的显示器，线栅偏振器，生物技术和光子元件等应用，至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法，因为它不受光学系统的限制，并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。 高 效，强大的SmartNIL工艺提供高图案保真度，拥有高...

EVG ® 720自动SmartNIL ® UV纳米压印光刻系统 自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米，设有EVG's专有SmartNIL ®技术 EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业知识，能够大规模制造微米和纳米级结构。具有SmartNIL技术的EVG720系统能够在大面积上印刷小至40 nm *的纳米结构，具有****的吞吐量，非常适合批量生产下一代微流控和光子器件，例如衍射光学元件（ DOEs）。 *分辨率取决于过程和模板 如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。也可以访问官网，获得更多信息。...

EVG ® 6200 NT特征： 顶部和底部对准能力 高精度对准台 自动楔形补偿序列 电动和程序控制的曝光间隙 支持***的UV-LED技术 **小化系统占地面积和设施要求 分步流程指导 远程技术支持 多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言） 敏捷处理和转换工具 台式或带防震花岗岩台的单机版 EVG ® 6200 NT附加功能： 键对准 红外对准 智能NIL ® µ接触印刷技术数据 晶圆直径（基板尺寸） 标准光刻：75至200 mm 柔...

EVG ® 7200 LA大面积SmartNIL ® UV纳米压印光刻系统 用于大面积****的共形纳米压印光刻。 EVG7200大面积UV纳米压印系统使用EVG专有且经过量证明的SmartNIL技术，将纳米压印光刻（NIL）缩放为第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。对于不能减小尺寸的显示器，线栅偏振器，生物技术和光子元件等应用，至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济有效的方法，因为它不受光学系统的限制，并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。 SmartNIL利用非常强大且可控的加工...

IQ Aligner®：用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统 ■用于光学元件的微成型应用 ■用于全场纳米压印应用 ■三个**控制的Z轴，用于控制压印光刻胶的总厚度变化（TTV），并在压模和基材之间实现出色的楔形补偿 ■粘合对准和紫外线粘合功能 紫外线压印_紫外线固化 印章 防紫外线基材 附加印记压印纳米结构分离印记 用紫外线可固化的光刻胶旋涂或滴涂基材。随后，将压模压入光刻胶并在仍然接触的情况下通过UV光交联。 µ-接触印刷 软印章 基板上的材料 领取物料，物料转移，删除印章 **小...

面板厂为补偿较低的开口率，多运用在背光模块搭载较多LED的技术，但此作法的缺点是用电量较高。若运用NIL制程，可确保适当的开口率，降低用电量。利用一般曝光设备也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光设备一次可形成的图样面积较小。若要制造55吋面板，需要经过数十次的曝光制程。不仅制程时间长，经过多次曝光后，在图样间会形成细微的缝隙，无法完整显示影像。若将NIL技术应用在5代设备，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜图样。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的压印接触可处理完1片8代基板。南韩业者表示，在玻璃基板上形成偏光图样以提升质量的生产制程，是LCD领域中***一个创新任务。若加速NI...