四川纳米压印厂家

SmartNIL是行业**的NIL技术，可对小于40 nm *的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景，即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本，大批量替代光刻技术。

注：*分辨率取决于过程和模板

如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG是纳米压印光刻（NIL）的市场**设备供应商。四川纳米压印厂家

EVG610特征：

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形误差补偿机制

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

敏捷处理和光刻工艺之间的转换

台式或带防震花岗岩台的单机版

EVG610附加功能：

键对准

红外对准

纳米压印光刻 

µ接触印刷

EVG610技术数据：

晶圆直径（基板尺寸）

标准光刻：比较大150毫米的碎片

柔软的UV-NIL：比较大150毫米的碎片

解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：柔软的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外线LED光源

自动分离：不支持

工作印章制作：外部

四川纳米压印厂家EVG开拓了这种非常规光刻技术，拥有多年技术，掌握了NIL，并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。

纳米压印光刻（NIL） -SmartNIL ®

用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺

介绍：

EVG是纳米压印光刻（NIL）的市场**设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年，掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究，开发和现场经验进行了优化，以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。

如果要获得详细信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司或者访问官网。

纳米压印设备哪个好？预墨印章用于将材料以明显的图案转移到基材上。该技术用于表面化学的局部修饰或捕获分子在生物传感器制造中的精确放置。

纳米压印设备可以进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。

将聚合物片或旋涂聚合物加热到其玻璃化转变温度以上，从而将材料转变为粘性状态。然后以足够的力将压模压入聚合物中。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。

EV Group能够提供混合和单片微透镜成型工艺。

    ”EV集团的技术研发与IP主管MarkusWimplinger说，“通过与供应链的关键企业的合作，例如DELO，我们能够进一步提高效率，作为与工艺和设备**们一同研究并建立关键的新生产线制造步骤的中心。”“EVG和DELO分别是晶圆级光学仪器与NIL设备与光学材料的技术与市场**企业。双方在将技术与工艺流程应用于大规模生产方面有可靠的经验,”DELO的董事总经理RobertSaller说道。“通过合作，我们将提供自己独特的技术，将晶圆级工艺技术应用于光学器件和光电器件制造中，EVG也成为我们***产品开发的理想合作伙伴。这种合作还将使我们以应用**和前列合作伙伴的身份为客户服务。"晶圆级光学元件的应用解决方案EVG的晶圆级光学器件解决方案为移动式消费电子产品提供多种新型的光学传感设备。主要的例子是：3D感应，飞行时间，结构光，生物特征身份认证，面部识别,虹膜扫描，光学指纹，频谱检测，环境感应与红外线成像。其它应用领域包括汽车照明，光地毯，平视显示器，车内感应，激光雷达，内窥镜照相机医学成像，眼科设备与手术机器人。EVG的晶圆级光学仪器解决方案得到公司的NILPhotonics解决方案支援中心的支持。DELO创新的多功能材料几乎可以在世界上每部手机上找到。EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台，可用于进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。四川纳米压印厂家

EVG620 NT是以其灵活性和可靠性而闻名的，因为它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。四川纳米压印厂家

EVG ® 620 NT特征：

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形补偿序列

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

敏捷处理和转换工具

台式或带防震花岗岩台的单机版

EVG ® 620 NT附加功能：

键对准

红外对准

SmartNIL

µ接触印刷技术数据

晶圆直径（基板尺寸）

标准光刻：比较大150毫米的碎片

柔软的UV-NIL：比较大150毫米的碎片

SmartNIL ®：在100毫米范围

解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：软UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外线LED光源

对准：

软NIL：≤±0.5 µm

SmartNIL ®：≤±3微米

自动分离：柔紫外线NIL：不支持；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔软的UV-NIL：外部：SmartNIL ®：支持

四川纳米压印厂家