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国产高纯度金属材料材料分类

来源: 发布时间:2024年05月11日

碘化精炼法碘化精炼法的原理是在真空密闭容器中,碘在较低温度下与被提纯金属发生反应,生成挥发性碘化物,这些碘化物扩散到较高温度的母丝上离解成金属和碘,金属沉积在炽热母丝上,使母丝长大, 碘返回原料区继续与原料金属反应,碘起“搬运工” 作用,过程反复进行。碘化精炼法可以有效的除去不与碘反应的杂质,如金属中的氧化物、碳化物、氮化物等,与碘反应但不生成挥发性碘化物的杂质,以及与碘反应但高温下不分解的杂质。电子束熔炼法除上述熔盐电解和碘化精炼方法外,还可以采用电子束熔炼法提纯金属铪。电子束熔炼是在高真空下,利用高速电子束流轰击金属端面,高速电子束流的动能转换为热能使金属熔化,并通过调节功率 和熔炼速率使熔池保持较高的温度,在高温高压下使熔体充分发生脱气。也会每年参加行业里面的采访。国产高纯度金属材料材料分类

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纯度很高、 所含杂质常以百万分之几计算的金属。由于它们的性能与一般工业纯金属***不同,因而获得了特殊用途。例如制备半导体材料用的锗、铟、镓等金属要 求达到99.999%以上的纯度。高纯金属还大量用于科研领域。纯度要求更高的金属 (其中杂质含量甚至降至十亿分之一以下) 称为 “超纯金属”。高纯金属(iHhgPuriytMetals)是现代多种高新技术的综合产物。随着半导体技术、宇航、无线电科技等的发展,对金属纯度要求越来越高,也**促进了高纯金属生产的发展。因为在金属未能达到一定纯度的情况下,金属特性往往会被杂质所掩盖,所以痕量杂质甚至超痕量杂质的存在都会影响金属的性能。例如过去钨曾被用作灯泡的灯丝,由于脆性而使处理上有困难,但在适当提纯之后,这种缺点即可以克服(钨丝也有掺杂及加工问题)。国产高纯度金属材料材料分类总之,ICP-MS法是目前高纯金属痕量杂质分析检测中应用多的分析检测方法。

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电感耦合等离子体质谱法电感耦合等离子质谱法(InductivelyCoupledplasmaMassspcetromeytr,ICP-MS)是以ICP为离子源,结合质谱仪进行分析检测的无机质谱分析技术。ICP-MS综合了等离子体高离子化能力和质谱高分辨、高灵敏度及连续测定多元素的优点,检出限可低至0.001-0.1ng/mL,测定范围广,能达到5-6个数量级,是高纯金属中ng/g量级杂质元素痕量分析的重要方法。ICP-MS测定高纯金属中痕量杂质元素时,选择恰当的待测元素同位素是很重要的。一般而言,同量异位干扰比多原子干扰严重,氧化物干扰比其他多原子干扰严重。因此,选择同位素总的原则是:若无干扰,选择丰度比较高的同位素进行测定;如果干扰小,可用干扰元素进行校正;如果干扰严重,则选择丰度较低的没有干扰的同位素进行测定。目前在高纯金属分析测试中常用的方法有:外标法、内标法、标准加入法和同位素稀释法等。

ICP-AES的不足之处在于:(1) ICP-AES法的光谱干扰较严重,谱线与谱图也较为复杂;(2) ICP-AES法的检出限还不够低,不能完全满足4N及其以上高纯金属的分析测试需要;(3)ICP-AES法采用液体溶样进样方式,容易带入污染;(4) ICP-AES法的基体干扰较严重,特别是许多高纯样品的分析测试需要分离基体,使得整个分析测试过程较为繁琐。虽然ICP-AES法直接检测较高纯度的高纯金属中痕量杂质元素目前还有一定困难,但其仍然是高纯金属杂质元素测定**常用的方法之一。目前通过将微柱分离、电热蒸发(ETV)、超声雾化等技术与ICP-AES联用,能满足部分高纯样品的分析测试需要请问什么叫做高纯度金属材料。

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电感耦合等离子体原子发射光谱法(InduetivelyCoupledplasmaAtomieEmissionSepcotrmetyr,ICP-AES)是根据不同元素的原子或离子在热激发或电激发下发射特征电磁辐射进行元素定性或定量检测的方法。随着ICP(电感祸合等离子体)光源技术的发展,ICP-AES己成为痕量元素分析检测***的手段之一,目前己广泛应用于半导体工业、新材料、高纯试剂、医学检测等众多行业中,在高纯金属分析检测领域也有着广泛的应用。ICP-AES法具有以下优点:(1) ICP-AES法可同时测定多个元素;(2) ICP-AES法测量的线性范围可达5-6个数量级,可以同时完成样品中常量、微量以及痕量杂质的测定;(3) ICP-AES法稳定性和测量精度良好,其分析精度可与湿式化学法媲美,且检出限较低,大多数元素的检出限可低于1mg/L;(4) ICP-AES法分析测试成本较低。广义上杂质包括化学杂质(元素)和物理杂质(晶体缺陷)。多功能高纯度金属材料牌子

度要求更高的金属 (其中杂质含量甚至降至十亿分之一以下) 称为 “超纯金属”。国产高纯度金属材料材料分类

高纯金属铬的特点是:主成分高(≥99.7%),杂质含量少,特别是气体氧、硫、氮含量低(C 0.025%、O 0.04%、N 0.003%、S 0.002%)。高纯金属铬主要用于电气的触头,其使用周期长,不发生打弧粘连现象;可用超级合金作添加剂生产飞机涡轮机的叶片,耐高温、抗氧化、抗振动、抗蠕变性能强;也用于做各种等离子和电子束溅喷的铬靶及电子行业的半导体、芯片等,在特色玻璃加工行业也得到广泛应用。国内高纯金属铬的生产厂家主要为沈宏公司,由于其采用的生产工艺不同,因此,其生产的金属铬中杂质硅含量较低,在0.1%以下,可以满足国内外市场对低硅金属铬的需求国产高纯度金属材料材料分类

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