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碳化硅轮廓仪用途是什么

来源: 发布时间:2022年11月13日

   蕞大视场Thefilm3D以10倍物镜优异地提供更寛广的2毫米视野,其数位变焦功能有助于缓解不同应用时切换多个物镜的需要,更进一步减少总体成本。手动式物镜转盘能一次搭载四组物镜,能满足需要多种倍率物镜交替使用的测量应用。索取技术资料索取报价性能规格厚度范围,WSI50nm-10mm厚度范围,PSI0-3μm樣品反射率範圍-100 %电脑要求机械规格Z范围100mmPiezo(压电)范围500μmXY平台类型手动或自动XY平台范围100mmx100mm相机2592x1944(5百万像素)系统尺寸,宽x深x高300mmx300mmx550mm系统重量15kg物镜1(NikonCFICEpiPlan)放大倍率5X10X20X50X100X视场xmmxmmxmmxmmxmm采样空间2μmμmμmμmμm1分别出售2样本上之像素大小常见的选购配件:urionNano30主动式防震台4微米,2微米,和100纳米多台阶高度标准。但是在共焦图像中,通过多珍孔盘的操作滤除模糊细节(未聚焦),只有来自聚焦平面的光到达CCD相机。碳化硅轮廓仪用途是什么

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白光干涉轮廓仪对比激光共聚焦轮廓仪白光干涉3D显微镜:干涉面成像,多层垂直扫描蕞好高度测量精度:<1nm高度精度不受物镜影响性价比好激光共聚焦3D显微镜:点扫描合成面成像,多层垂直扫描Keyence(日本)蕞好高度测量精度:~10nm高度精度由物镜决定,1um精度@10倍90万-130万三维光学轮廓仪采用白光轴向色差原理(性能优于白光干涉轮廓仪与激光干涉轮廓仪)对样品表面进行快速、重复性高、高分辨率的三维测量,测量范围可从纳米级粗糙度到毫米级的表面形貌,台阶高度,给MEMS、半导体材料、太阳能电池、医疗工程、制药、生物材料,光学元件、陶瓷和先进材料的研发和生产提供了一个精确的、价格合理的计量方案。(来自网络)重庆轮廓仪一级代理隔振系统:集成气浮隔振 + 大理石基石。

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1.5.系统培训的注意事项如何使用电子书阅读软件和软、硬件的操作手册;数据采集功能的讲解:通讯端口、连接计算器、等待时间等参数的解释和参数设置;实际演示一一讲解;如何做好备份和恢复备份资料;当场演示各种报表的操作并进行操作解说;数据库文件应定时作备份,大变动时更应做好备份以防止系统重新安装时造成资料数据库的流失;在系统培训过程中如要输入一些临时数据应在培训结束后及时删除这些资料。备注:系统培训完成后应请顾客详细阅读软件操作手册,并留下公司“客户服务中心”的电话与个人名片,以方便顾客电话联系咨询。

如何正确使用轮廓仪准备工作1.测量前准备。2.开启电脑、打开机器电源开关、检查机器启动是否正常。3.擦净工件被测表面。测量1.将测针正确、平稳、可靠地移动在工件被测表面上。2.工件固定确认工件不会出现松动或者其它因素导致测针与工件相撞的情况出现3.在仪器上设置所需的测量条件。4.开始测量。测量过程中不可触摸工件更不可人为震动桌子的情况产生。5.测量完毕,根据图纸对结果进行分析,标出结果,并保存、打印。轮廓的角度处理:角度处理:两直线夹角、直线与Y轴夹角、直线与X轴夹角点线处理:两直线交点、交点到直线距离、交点到交点距离、交点到圆心距离、交点到点距离圆处理:圆心距离、圆心到直线的距离、交点到圆心的距离、直线到切点的距离线处理:直线度、凸度、LG凸度、对数曲线NanoX-2000/3000 系列 3D 光学干涉轮廓仪建立在移相干涉测量(PSI)、白光垂直扫描干涉测量(VSI)和单色光。

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满足您需求的轮廓仪使用范围广:兼容多种测量和观察需求保护性:非接触式光学轮廓仪耐用性更强,使用无损可操作性:一键式操作,操作更简单,更方便智能性:特殊形状能够只能计算特征参数个性化:定制化客户报告模式更好用户体验:迅捷的售后服务,个性化应用软件支持1.精度高,寿命长---采用超高精度气浮导轨作为直线测量基准,具有稳定性好、承载大、勇不磨损等优点,达到国内同类产品较高精度。2.高精度光栅尺及进口采集卡---保证数据采样分辨率,准确度高,稳定性好。(网络)测量模式:移相干涉(PSI),白光垂直扫描干涉(VSI),单色光垂直扫描干涉(CSI)。半导体轮廓仪出厂价

轮廓仪可用于:散热材料表面粗糙度分析(粗糙度控制),生物、医药新技术,微流控器件。碳化硅轮廓仪用途是什么

轮廓仪的性能测量模式:移相干涉(PSI),白光垂直扫描干涉(VSI),单色光垂直扫描干涉(CSI)样品台:150mm/200mm/300mm样品台(可选配)XY平移:±25mm/150mm/200mm/300mm,倾斜:±5°可选手动/电动样品台CCD相机像素:标配:1280×960视场范围:560×750um(10×物镜)具体视场范围取决于所配物镜及CCD相机光学系统:同轴照明无限远干涉成像系统光源:高效LEDZ方向聚焦80mm手动聚焦(可选电动聚焦)Z方向扫描范围精密PZT扫描(可选择高精密机械扫描,拓展达10mm)纵向分辨率<0.1nmRMS重复性*0.005nm,1σ台阶测量**准确度≤0.75%;重复性≤0.1%,1σ横向分辨率≥0.35um(100倍物镜)检测速度≤35um/sec,与所选的CCD碳化硅轮廓仪用途是什么

岱美仪器技术服务(上海)有限公司公司是一家专门从事半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪产品的生产和销售,是一家贸易型企业,公司成立于2002-02-07,位于金高路2216弄35号6幢306-308室。多年来为国内各行业用户提供各种产品支持。公司主要经营半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪等产品,产品质量可靠,均通过仪器仪表行业检测,严格按照行业标准执行。目前产品已经应用与全国30多个省、市、自治区。岱美仪器技术服务(上海)有限公司研发团队不断紧跟半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪行业发展趋势,研发与改进新的产品,从而保证公司在新技术研发方面不断提升,确保公司产品符合行业标准和要求。岱美仪器技术服务(上海)有限公司严格规范半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪产品管理流程,确保公司产品质量的可控可靠。公司拥有销售/售后服务团队,分工明细,服务贴心,为广大用户提供满意的服务。