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Nano X-3000轮廓仪试用

来源: 发布时间:2022年10月31日

NanoX-8000轮廓仪的自动化系统主要配置:▪XY最大行程650*650mm➢支持415*510mm/510*610mm两种尺寸▪XY光栅分辨率0.1um,定位精度5um,重复精度1um▪XY平台蕞大移动速度:200mm/s▪Z轴聚焦:100mm行程自动聚焦,0.1um移动步进▪隔振系统:集成气浮隔振+大理石基石▪配置真空台面▪配置Barcode扫描板边二维码,可自动识别产品信息▪主设备尺寸:1290(W)x1390(D)x2190(H)mm如果想要了解更加详细的产品信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。传统光学显微镜的图像包含清晰和模糊的细节。Nano X-3000轮廓仪试用

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如何正确使用轮廓仪准备工作1.测量前准备。2.开启电脑、打开机器电源开关、检查机器启动是否正常。3.擦净工件被测表面。测量1.将测针正确、平稳、可靠地移动在工件被测表面上。2.工件固定确认工件不会出现松动或者其它因素导致测针与工件相撞的情况出现3.在仪器上设置所需的测量条件。4.开始测量。测量过程中不可触摸工件更不可人为震动桌子的情况产生。5.测量完毕,根据图纸对结果进行分析,标出结果,并保存、打印。轮廓的角度处理:角度处理:两直线夹角、直线与Y轴夹角、直线与X轴夹角点线处理:两直线交点、交点到直线距离、交点到交点距离、交点到圆心距离、交点到点距离圆处理:圆心距离、圆心到直线的距离、交点到圆心的距离、直线到切点的距离线处理:直线度、凸度、LG凸度、对数曲线太阳能电池轮廓仪一级代理产能 : 45s/点 (移动 + 聚焦 + 测量)(扫描范围 50um)。

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NanoX-2000/3000系列3D光学干涉轮廓仪建立在移相干涉测量(PSI)、白光垂直扫描干涉测量(VSI)和单色光垂直扫描干涉测量(CSI)等技术的基础上,以其纳米级测量准确度和重复性(稳定性)定量地反映出被测件的表面粗糙度、表面轮廓、台阶高度、关键部位的尺寸及其形貌特征等。广泛应用于集成电路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技术、材料、太阳能电池技术等领域。使用范围广:兼容多种测量和观察需求保护性:非接触式光学轮廓仪耐用性更强,使用无损可操作性:一键式操作,操作更简单,更方便

轮廓仪产品应用蓝宝石抛光工艺表面粗糙度分析(粗抛与精抛比较)高精密材料表面缺陷超精密表面缺陷分析,核探测Oled特征结构测量,表面粗糙度外延片表面缺陷检测硅片外延表面缺陷检测散热材料表面粗糙度分析(粗糙度控制)生物、医药新技术,微流控器件微结构均匀性缺陷,表面粗糙度移相算法的优化和软件系统的开发本作品采用重叠平均移相干涉算法,保证了亚纳米量级的测量精度;优化软件控制系统,使每次检测时间压缩到10秒钟以内,同时完善的数据评价系统为用户评价产品面形质量提供了方便。包含了从纳米到微米级别的轮廓、线粗糙度、面粗糙度等二维、三维参数,作为评定该物件是否合格的标准。

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我们的轮廓仪有什么优势呢世界先进水平的产品技术合理的产品价格24小时到现场的本地化售后服务无偿产品技术培训和应用技术支持个性化的应用软件服务支持合理的保质期后产品服务更佳的产品性价比和更优解决方案非接触式轮廓仪(光学轮廓仪)是以白光干涉为原理制成的一款高精度微观形貌测量仪器,可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面,从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。(本段来自网络)共焦显微镜通过压电驱动器和物镜的精确垂直位移来实现。中端轮廓仪代理价格

粗糙度仪的功能是测量零件表面的磨加工/精车加工工序的表面加工质量。Nano X-3000轮廓仪试用

轮廓仪的自动拼接功能:条件:被测区域明显大于视场的区域,使用自动图片拼接。需要点击自动拼接,轮廓仪会把移动路径上的拍图自动拼接起来。软件会自适应计算路径上移动的偏差,自动消除移动中偏差,减小误差。但是误差是一定存在的。白光轮廓仪的典型应用:对各种产品,不见和材料表面的平面度,粗糙度,波温度,面型轮廓,表面缺陷,磨损情况,腐蚀情况,孔隙间隙,台阶高度,完全变形情况,加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。Nano X-3000轮廓仪试用

岱美仪器技术服务(上海)有限公司是一家从事半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪研发、生产、销售及售后的贸易型企业。公司坐落在金高路2216弄35号6幢306-308室,成立于2002-02-07。公司通过创新型可持续发展为重心理念,以客户满意为重要标准。在孜孜不倦的奋斗下,公司产品业务越来越广。目前主要经营有半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪等产品,并多次以仪器仪表行业标准、客户需求定制多款多元化的产品。岱美仪器技术服务(上海)有限公司每年将部分收入投入到半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪产品开发工作中,也为公司的技术创新和人材培养起到了很好的推动作用。公司在长期的生产运营中形成了一套完善的科技激励政策,以激励在技术研发、产品改进等。半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪产品满足客户多方面的使用要求,让客户买的放心,用的称心,产品定位以经济实用为重心,公司真诚期待与您合作,相信有了您的支持我们会以昂扬的姿态不断前进、进步。