中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理，下面为大家介绍一下中温气氛箱式炉的系统配置。一、热工系统1.额定温度800℃2.较高温度850℃3.加热元件陶瓷外丝加热管4.加热功率18kw5.空炉保温功率约9kw6.温区个数1个7.控温点数2点8.热偶K分度9.控温稳定度1℃(恒温平台)10.炉膛温度均匀度6℃（恒温800℃,1h）二、气氛系统1.炉膛气氛2路氮气，流量计量程为2～20L/min；每路流量可调节2.排气系统在炉膛顶部设置一个排气囱，用于废气排放，废气3.经过水封清洗后进入大气中，减少对环境污染4.氧含量配氧含量分析仪分析氧含量：5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量合肥真萍告诉您如何正确使用试验箱？芜湖做试验箱
超高真空烘箱被广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位，以确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验。下面为大家介绍一下超高真空烘箱的主要技术指标。1.工作室温度范围：常温～+300℃用户使用温度260℃2.温度波动度：±1.0℃（空载）；3.温度偏差：常压温度试验：常温～200℃时±2℃200～300℃时±5.0℃低气压高温综合试验:≤100℃时±2.0℃，100℃～200℃时±5.0℃200℃～300℃时±7.0℃芜湖做试验箱上海哪家试验箱值得信赖？
下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的技术指标。1.使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃；2.绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸；3.加热元件：石墨加热棒；4.冷却方式：气冷+循环风冷降温；5.控温稳定度：2℃，具有PID参数自整定功能；6.炉膛温度均匀度：5℃（恒温1500℃）；7.气氛:可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%；8.极限真空:10-3torr级；9.抽气速率：空载下，30min达到10-2torr10.升温功率：170kW；11.升温速率：15℃/min（空载）；12.降温速率：1450℃至80℃,240分钟13.腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高）
真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于防止晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏，防止探针卡潮湿及氧化，防止光罩的受潮---黄光部封装的金线，液防止晶的受潮，以及防止线路板受潮。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的氮气监控系统。1.温湿度记录功能：1.2内建内存，可储存温度/湿度，收集时间1~240分钟可自行设定。1.3可利用RS232连接阜下载至计算机中读取。1.4品管记录格式设计，有助于内部记录追踪并可支持数据库档案格式。2.湿度警报系统：2.1可设定启动警报的湿度值及条件，内配蜂鸣器（90分贝）及闪烁警示功能。2.2可另外选配积层式警示灯。3.温湿度偏移校正功能：内建校正功能，确保显示准确度。试验箱找哪家比较安心？合肥真萍不错。
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本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。芜湖做试验箱
上海矽旺电子科技有限公司是一家上海矽旺电子科技有限公司成立于2013年06月18日，注册地位于上海市松江区叶榭镇叶旺公路1号三楼，法定代表人为姚智强。经营范围包括许可项目：货物进出口；技术进出口。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准） 一般项目：从事电子科技、机械科技、机电科技、电气科技、光电科技、太阳能科技、智能化科技、软件科技领域内的技术开发、技术咨询、技术服务、技术转让，机械设备、五金交电、电子产品、电气设备、计算机、软件及辅助设备的销售，集成电路设计，物联网信息服务。的公司，是一家集研发、设计、生产和销售为一体的专业化公司。公司自创立以来，投身于电子科技，机械科技，机电科技，电气科技，是交通运输的主力军。矽旺电子科技致力于把技术上的创新展现成对用户产品上的贴心，为用户带来良好体验。矽旺电子科技始终关注交通运输行业。满足市场需求，提高产品价值，是我们前行的力量。