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珠海3C电子产品DLCDLC涂层加工

来源: 发布时间:2023年02月08日

dlc涂层应用广。dlc涂层拥有多种多样的特性,这也为有着功能明确的多功能表面的新产品的开发创造了条件。dlc涂层优良的涂层性能使其得以实现产业化生产并得到很广的应用,这些发展激发了很多科研院所和公司投资进一步的研究并带动了整个产业向将来迈进了一步。dlc涂层具有独特的高硬度和低摩擦系数,并且具有极强地不与金属材料粘结的性能。因此,这种涂层技术成为汽车行业应用的理想选择。dlc涂层的工业化生产开始于上世纪末和本世纪初,和普通的应用于刀具/模具上的硬质涂层(如TiN,TiAIN,CrN,TiCN等)相比是一种崭新的涂层技术。类金刚石涂层的出现为硬质合金刀具的发展提供了新的契机。珠海3C电子产品DLCDLC涂层加工

浅谈DLC涂层的摩擦性能。DLC膜不但具有优异的耐磨性,而且具有很低的摩擦系数,一般低于0.2,是一种优异的表面抗磨损改性膜。DLC的摩擦系数随制备工艺的不同和膜中成分的变化而变化,其摩擦系数比较低可达0.005。掺杂金属元素可能降低其摩擦系数,但加入H能提高润滑作用,环境也对摩擦系数有一定的影响。但总的来说,DLC膜与传统的硬质薄膜(如上述的TiN、TiC、TiAlN等)相比,在摩擦系数方面具有明显优势,这些传统硬质薄膜的摩擦系数都在0.4以上。因此,DLC膜有可能在许多摩擦学领域替代这些传统硬膜。珠海3C电子产品DLCDLC涂层加工DLC涂层的基本概念和特点。

刀具需要涂层吗?镀层种类这么多该如何选择?CVD是将反应源以气体形式通入反应腔中,经由氧化、还原与基板反应进行化学的反应,进而生成物藉由内扩散作用而沉积至基板表面上。而反应过程中也有可能会产生不同的副产品,但大多会随著气流带走,并不会留在反应腔中。CVD技术主要用于硬质和金车削类的刀具涂层,适合用于中型、重型切削的高速加工,且比较起来CVD设备简单、工艺成熟,沉积物种类多,速率高易控制,有高度的渗透性与均匀性,能获得不同组织的多层涂层且厚薄均匀,重要的是工艺成本低,适合大量生产。PVDPVD则为物理i气相沉积(Physicalvapordeposition),为工业制造的工业,主要藉由物理反应来沉积薄膜,即为真空镀膜(蒸镀),多用于切削工具与各种模具的表面处理,以及半导体装置的制作。

制备较厚无氢DLC涂层的方法:生产无氢DLC涂层的技术还有待发展,生产超过5微米技术已经比较少见,原因是由于金刚石涂层的硬度高,与基底的结合力问题不好解决,另外沉积过程中金刚石涂层本身的内应力也非常大,所以无氢DLC涂层工艺的难度很高。从生产设备的角度来看,如果需要沉积厚度超过50微米的涂层,涂层本身沉积速率比较低的情况下,需要很长的沉积时间,所以弧源的设计和供气方式都有很高的设计要求。德国研究所设计了一种石墨柱弧的弧源,利用高能量的激光系统,轰击石墨柱弧的表面,在没有离子源辅助沉积的情况下,生产出了厚度超过50微米的纯碳无氢DLC涂层,主要应用在汽车零部件方面,高性能汽车的曲轴、活塞、活塞环、气门顶杆等。该制备方法需要长期在复杂的摩擦条件下可靠工作,需要很高的耐磨和润滑性能,但质量优异,在超过30年的时间里可以免维护。应该说,DLC应用于活塞环已经逐渐成为一种趋势。

DLC涂层在刀片上的应用。现在DLC也在各种刀片如剪刀、刮胡刀等上的应用。DLC膜减小了刀片与皮肤的摩擦,改善了刀片的性能,延长了使用寿命。DLC涂层在关键零部件上的应用DLC膜在许多关键零部件也能发挥其优良的性能,如在制成式斯特林制冷机的活塞上的应用利用其低的摩擦系数,降低摩擦力,提高耐磨性,达到无油润滑及使用寿命要求。在缝纫机配件-旋梭上镀DLC膜替代原来的电镀硬铬处理,不但避免了污染环境的问题,而且,明显提高工件表面硬度及耐磨性,使用寿命提高了10倍以上,同时,也因表面膜层摩擦系数降低后,使机器运行过程中产生的噪音变小。DLC涂层具备出色的耐磨性能。自润滑表面DLC涂层原理

DLC涂层主要是在电离和分解的碳或烃类物质,以通常为10-300eV的能量降落在基底表面时形成的。珠海3C电子产品DLCDLC涂层加工

DLC镀膜件经镀前处理,即可进人DLC镀膜工序。DLC镀膜在进行DLC镀膜时还必须注意DLC镀膜液的配方,电流密度的选择以及温度、等的调节。DLC镀膜需要说明的是,单盐电解液适用于形状简单、外观要求又不高的镀层,络盐电解液分散能力高,DLC镀膜时电流密度和效率低,DLC镀膜主要适用于表面形状较复杂的镀层。当DLC涂层真空镀膜机镀膜真空室内的真空度为13Pa时,DLC镀膜在阴阳两电极间加上一定的电压,气体发生自激放电,DLC镀膜从阴极发射出的原子或原子团可沉积在阳板或真空室的壁上。DLC镀膜放电回路,DLC镀膜是靠气体放电产生的正离子向阴极运动和一次电子向阳极运动形成的。DLC镀膜放电是靠正离子撞击阴极产生二次电子。DLC镀膜的主要缺点是沉积速率低,镀件温升。DLC镀膜是一种异常阴极辉光低压等离子体放电,DLC镀膜源是利用磁控管原理(即磁场与电场正交,磁场方向与阴极表面平行)制成的源。珠海3C电子产品DLCDLC涂层加工

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