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但是，和对待任何事物不能化一样，对待空气洁净技术的作用也不能化，不能把提高产品质量的作用完全归之于它。据国外材料分析，例如对于半导体元件部门，空气洁净技术在提高产品质量方面的作用大约在整个生产中占的比重为20%，而生产工艺自动化作用的比重占60%，其他因素占20%。当然，在已经解决了生产工艺的问题以后，空气净化就是主要矛盾，例如超大规模集成电路，没有洁净的环境，则几乎是生产不出来的。对于需要空气净化的行业和部门有：电子、精密机械、宇宙航空、化学工业，印刷工业，原子能工业、食品工业、医药工业、医院、动物实验、注塑工业等。这里要讨论的气流速度是指洁净室内的气流速度，在其他洁净空间中的气流速度在讨论具体设备时再说明。闵行区品牌园区净化工程供应商

(1)送风口出口气流速度不宜太大，和单纯空调房间相比，要求速度衰减更快，扩散角度更大。(2)吹过水平面的气流速度（例如侧送时回流速度）不宜太大，以免吹起表面微粒重返气流，而造成再污染，这一速度一般不宜大干0.2m/s。对于平行流洁净室习惯上称层流洁净室，由于主要靠气流的“活塞打挤压作用排除行染，所以截面上的速度就是非常重要的指标。过去都参考美国20gB标准，采用0.45m/s．但人们也都了解到这样大速度所需要的通风量是极大的，为了节能，也都在探求降低风速的可行性。在我国，《空气洁净技术措施》和（洁净厂房设计规范）都是这样规定的金山区质量园区净化工程有哪些温湿度要求：温度一般为24+2℃，相对湿度为55+5%。

相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产湿度范围为35—45%。气压规定对于大部分洁净空间，为了防止外界污染侵入，需要保持内部的压力（静压）高于外部的压力（静压）。压力差的维持一般应符合以下原则：

洁净工作棚(简称：洁净棚)(CLEAN BOOTH)是为快速方便建立的一座简易洁净室，洁净棚具备多种洁净等级及空间搭配可以根据使用需求设计制作，因此其简便运用弹性大安装容易且施工期短以及可移性为其主要特点，洁净工作棚同时可针对在一般等级的洁净室中局部地区需要高洁净度的地方做局部增设以降低成本。洁净工作棚是一种可提供局部高洁净环境的空气净化设备。洁净棚主要由箱体、风机、初效空气过滤器、阻尼层、灯具等组成，外壳喷塑。该产品既可悬挂，又可地面支撑，结构紧凑，使用方便。可以单个使用，也可多个连接组成带状洁净区域。另外若系统停止运转再，欲达需求之洁净度，往往须耗时相当长一段时间。

对于以微生物为控制对象的生物洁净室（例如：生物制药、洁净手术室、无菌室、生物安全实验室、实验无菌动物饲养室等）其重点要控制微生物的产生和传播，因为潮湿和水分是微生物滋生和繁殖的条件，因此水加湿的淋水、湿膜、高压喷雾等方法不能用在生物洁净室中，只能采用干蒸汽加湿和电极（电热）式加湿。还有一个值得注意的问题是，近些年来我国南方如佛山、广州以及华东的上海、苏州等地冬季室外空气相对湿度较“规范”给出的室外空调计算相对湿度要低，例如：冬季室外计算相对湿度佛山无尘室、广州均为70%，上海和苏州为75%，而这些年实测的室外相对湿度有时只有30%左右，因此，建起来运行的洁净室的加湿量不足，室内相对湿度偏低，达不到设计要求。此环境空间的设计施工过程即可称为净化工程。闵行区品牌园区净化工程供应商

净化工程中各级空气洁净度的空气净化处理，均应采用初效、中效、高效空气过滤器三级过滤。闵行区品牌园区净化工程供应商

光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室，已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近几年来，由于技术之创新发展，对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切，如超大型积体电路之研究制造，已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目，而我公司的设计理念及施工技术在行业中则处于地位。光学微电子净化工程一般包括：1、 洁净生产区2、 洁净辅助间（包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等）闵行区品牌园区净化工程供应商

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