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(1)送风口出口气流速度不宜太大，和单纯空调房间相比，要求速度衰减更快，扩散角度更大。(2)吹过水平面的气流速度（例如侧送时回流速度）不宜太大，以免吹起表面微粒重返气流，而造成再污染，这一速度一般不宜大干0.2m/s。对于平行流洁净室习惯上称层流洁净室，由于主要靠气流的“活塞打挤压作用排除行染，所以截面上的速度就是非常重要的指标。过去都参考美国20gB标准，采用0.45m/s．但人们也都了解到这样大速度所需要的通风量是极大的，为了节能，也都在探求降低风速的可行性。在我国，《空气洁净技术措施》和（洁净厂房设计规范）都是这样规定的这主要看三方面的反应水平，这三个方面是：集中精神，动作准确性，工作速度；徐汇区有关园区净化工程供应商

复合式(Mixed Type)复合式为将乱流式及层流式予以复合或并用，可提供局部超洁净之空气。(1)洁净隧道(Clean Tunnel)：以HEPA或ULPA过滤器将制程区域或工作区域100%覆盖使洁净度等级提高至10级以上，可节省安装运转费用。此型式需将作业人员之工作区与产品和机器维修予以隔离，以避免机器维修时影响工作及品质。ULSI制程大都采用此种型式。洁净隧道另有二项优点：A.弹性扩充容易； B.维修设备时可在维修区轻易执行。(2)洁净管道(Clean Tube)：将产品流程经过的自动生产线包围并净化处理，将洁净度等级提至100级以上。因产品和作业员及发尘环境相互隔离，少量之送风即可得到良好之洁净度，可节省能源，不需人工的自动化生产线为适宜使用。药品、食品业界及半导体业界均适用。杨浦区定制园区净化工程哪里买此环境空间的设计施工过程即可称为净化工程。

洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。

但是，和对待任何事物不能化一样，对待空气洁净技术的作用也不能化，不能把提高产品质量的作用完全归之于它。据国外材料分析，例如对于半导体元件部门，空气洁净技术在提高产品质量方面的作用大约在整个生产中占的比重为20%，而生产工艺自动化作用的比重占60%，其他因素占20%。当然，在已经解决了生产工艺的问题以后，空气净化就是主要矛盾，例如超大规模集成电路，没有洁净的环境，则几乎是生产不出来的。对于需要空气净化的行业和部门有：电子、精密机械、宇宙航空、化学工业，印刷工业，原子能工业、食品工业、医药工业、医院、动物实验、注塑工业等。对要求洁净室的悬浮粒子浓度或微生物浓度更低的场合，就使用单向气流。

（1） 洁净环境是为生产工艺服务的，洁净室设计必须满足生产工艺的环境要求，这是理所当然的。因此，在洁净室设计时生产工艺对环境参数的要求应该实事求是，其面积、层高，温度、湿度，洁净度等应该该高则高，该低则低，并非越高越好。在不影响生产工艺正常运行的前提下尽可能地降低参数要求，控制净化面积，缩小高净化级别洁净区的范围，严格控制100级和更高级别单向流洁净区的面积。（2）在生产工艺平面区划时尽可能把相同级别的洁净房间布置在一起，把洁净度要求高的工序设置在上风侧，把产生粉灰、有毒、有害、易燃、易爆废气的工艺设备、容器尽可能放在洁净区外，若必须放在洁净区内时应尽量采取密闭措施以减少粉尘和废气的排放量。另外若系统停止运转再，欲达需求之洁净度，往往须耗时相当长一段时间。闵行区定制园区净化工程价钱

而每小时换气次数与房间的体积有关，如吊顶的高低，因此不适合用来表示单向流。徐汇区有关园区净化工程供应商

代:银离子净化技术简单地说就是把银块离子化吹到空气中以起到杀菌的效果缺点产品成本高，细菌杀灭率低，对病毒几乎没有杀灭特性。产品：早期的松下空气净化器。第二代:离子技术主要原理是运用静电释放负离子，吸附集中空气中的粉尘起到降尘作用，同时负离子对空气中的氧气也有电离成臭氧的作用，对细菌有一定的杀灭作用，这类产品优点是产品生产成本较低。产品：亚都、飞利浦。第三代:温等离子技术主要原理是，通过给气体外加电压至气体的放电电压，使气体被击穿，产生各种强氧化性的低温等离子，并在极短时间内把接触徐汇区有关园区净化工程供应商

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