如图6所示，对于贯通孔42中在晶片载置面20a开口的开口部，也可以嵌入有插塞50，所述插塞50具有多个直径比贯通孔42小的小孔52。这种情况下，贯通孔42的开口部会由多个小孔52构成。这样的话，通过贯通孔42的气体经过小孔52而分散地吹到晶片w的背面，因此与气体集中地吹到晶片w的背面的情形相比，能够更稳定地吸住晶片w，且能够抑制因气体导致的晶片w的温度下降。上述实施方式中，如图7所示，在陶瓷基体20的环内区域20c(晶片载置面20a中的卡环22的内侧区域)，也可以设置与贯通孔42的开口42a连接的放射状的4条槽20d以及与各槽20d的外周端连接的环状的槽20e。图7中，对于与上述实施方式相同的构成要素赋予相同的符号，但省略了凸块24。这样的话，通过槽20d、20e而易于使晶片下方空间s内的气体流均匀化，因而使得形成导电膜f的成分更加难以进入到卡环22与晶片w的间隙。需说明的是，槽20d、20e的深度可以为，槽20d、20e的宽度可以为5mm以下。上述实施方式中，如图8和图9所示，贯通孔42也可以在陶瓷基体20的内部具有沿半径向外的方向延伸的分支路46。图8和图9中，对于与上述实施方式相同的构成要素赋予相同的符号，但省略了凸块24。上海昱彦精密机械有限公司代理千岛，亿川，佳贺，等品牌全系列产品AgA。云南虎钳内藏式中空油压夹盘
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本实用新型所采用的技术方案是：包括盘体、楔型套、滑座、密封条、挡盖和防尘盖；所述盘体中部在高度方向上贯通设置有安装槽；所述楔型套滑动连接在安装槽内部；所述盘体顶部外周在水平方向上均匀设置有多个滑槽；所述滑座滑动连接滑槽内部；所述楔型套外周均匀设置有多个导向槽；所述滑座一侧设置有导向块；所述导向块滑动连接在导向槽内部；所述安装槽上方在盘体顶部设置有固定槽；所述挡盖固定安装在固定槽内部。进一步优化本技术方案，所述的滑槽顶部两侧对称设置有密封槽；所述密封条设置在密封槽内部；所述密封条顶部设置有压板；所述密封条和压板通过螺钉固定在密封槽内部。进一步优化本技术方案，所述的密封槽宽度、密封条宽度和压板宽度相等；所述密封条长度等于压板长度。进一步优化本技术方案，所述的挡盖顶部外周设置有凸台；所述凸台外周均匀设置有多个***凹槽；所述***凹槽和滑座在宽度方向上相对应；所述***凹槽宽度等于相邻两密封槽间距；所述密封条和压板一端通过螺钉固定安装在***凹槽内部。进一步优化本技术方案，所述的***凹槽一侧贯通设置有第二凹槽；所述第二凹槽宽度等于滑座顶部宽度。进一步优化本技术方案。
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吸附力下降。本发明是为了解决上述课题而提出的，主要目的在于稳定地吸住晶片。解决课题的方法本发明的静电卡盘加热器是用于在晶片上形成导电膜的约翰生-拉别克型的静电卡盘加热器，具有：圆板状的陶瓷基体，其一个面为载置上述晶片的晶片载置面，且具有静电电极和电阻发热体；中空轴，其安装于上述陶瓷基体中的与上述晶片载置面相反侧的面上；凸状环，其设置在上述晶片载置面，且外径比上述晶片的直径小；以及贯通孔，其设置为从上述中空轴的周壁下端贯通至上述晶片载置面中的上述凸状环的内侧，能够从上述中空轴的下端向由上述晶片载置面、上述凸状环和载置在上述晶片载置面上的上述晶片包围的晶片下方空间供给气体。在使用该静电卡盘加热器时，在载置于凸状环上的晶片的表面形成导电膜，与此同时，在晶片载置面中的凸状环的外侧区域也会附着导电膜。这里，由于凸状环的外径比晶片的直径小，因此俯视时，凸状环成为被晶片覆盖隐藏的状态。因此，在与晶片背面抵接的凸状环的上表面难以附着导电膜。此外，由于向晶片下方空间供给气体，因此形成导电膜的成分难以进入到凸状环与晶片的间隙，在这一点上，也使得在凸状环的上表面难以附着导电膜。因此。上海昱彦精密机械有限公司代理千岛，亿川，佳贺，等品牌全系列产品Af'A。扣件内藏式中空油压夹盘联系方式
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