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南通优势半导体器件特征

来源: 发布时间:2024年05月18日

第四部分:用字母对同一类型号器件进行分档。A、B、C、D、E┄┄-表示同一型号的器件按某一参数进行分档的标志。除四个基本部分外,有时还加后缀,以区别特性或进一步分类。常见后缀如下:1、稳压二极管型号的后缀。其后缀的***部分是一个字母,表示稳定电压值的容许误差范围,字母A、B、C、D、E分别表示容许误差为±1%、±2%、±5%、±10%、±15%;其后缀第二部分是数字,表示标称稳定电压的整数数值;后缀的第三部分是字母V,**小数点,字母V之后的数字为稳压管标称稳定电压的小数值。2、整流二极管后缀是数字,表示器件的比较大反向峰值耐压值,单位是伏特。晶闸管型号的后缀也是数字,通常标出比较大反向峰值耐压值和比较大反向关断电压中数值较小的那个电压值。南通优势半导体器件特征

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第二部分:日本电子工业协会JEIA注册标志。S-表示已在日本电子工业协会JEIA注册登记的半导体分立器件。第三部分:用字母表示器件使用材料极性和类型。A-PNP型高频管、B-PNP型低频管、C-NPN型高频管、D-NPN型低频管、F-P控制极可控硅、G-N控制极可控硅、H-N基极单结晶体管、J-P沟道场效应管、K-N 沟道场效应管、M-双向可控硅。第四部分:用数字表示在日本电子工业协会JEIA登记的顺序号。两位以上的整数-从“11”开始,表示在日本电子工业协会JEIA登记的顺序号;不同公司的性能相同的器件可以使用同一顺序号;数字越大,越是产品。第五部分: 用字母表示同一型号的改进型产品标志。A、B、C、D、E、F表示这一器件是原型号产品的改进产品。如东哪些是半导体器件费用三位数字-**通用半导体器件的登记序号、一个字母加二位数字-表示**半导体器件的登记序号。

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第二部分:用字母表示器件的类型及主要特征。A-检波开关混频二极管、B-变容二极管、C-低频小功率三极管、D-低频大功率三极管、E-隧道二极管、F-高频小功率三极管、G-复合器件及其他器件、H-磁敏二极管、K-开放磁路中的霍尔元件、L-高频大功率三极管、M-封闭磁路中的霍尔元件、P-光敏器件、Q-发光器件、R-小功率晶闸管、S-小功率开关管、T-大功率晶闸管、U-大功率开关管、X-倍增二极管、Y-整流二极管、Z-稳压二极管。第三部分:用数字或字母加数字表示登记号。三位数字-**通用半导体器件的登记序号、一个字母加二位数字-表示**半导体器件的登记序号。

3、晶闸管型号的后缀也是数字,通常标出比较大反向峰值耐压值和比较大反向关断电压中数值较小的那个电压值。如:BDX51-表示NPN硅低频大功率三极管,AF239S-表示PNP锗高频小功率三极管。把晶体二极管、三极管以及电阻电容都制作在同一块硅芯片上,称为集成电路。一块硅芯片上集成的元件数小于 100个的称为小规模集成电路,从 100个元件到1000 个元件的称为中规模集成电路,从1000 个元件到100000 个元件的称为大规模集成电路,100000 个元件以上的称为超大规模集成电路。集成电路是当前发展计算机所必需的基础电子器件。许多工业先进国家都十分重视集成电路工业的发展。集成电路的集成度以每年增加一倍的速度在增长。每个芯片上集成256千位的MOS随机存储器已研制成功,正在向1兆位 MOS随机存储器探索。不同公司的性能相同的器件可以使用同一顺序号;数字越大,越是产品。

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在MOS器件的基础上,又发展出一种电荷耦合器件(CCD),它是以半导体表面附近存储的电荷作为信息,控制表面附近的势阱使电荷在表面附近向某一方向转移。这种器件通常可以用作延迟线和存储器等;配上光电二极管列阵,可用作摄像管。命名方法中国半导体器件型号命名方法半导体器件型号由五部分(场效应器件、半导体特殊器件、复合管、PIN型管、激光器件的型号命名只有第三、四、五部分)组成。五个部分意义如下:***部分:用数字表示半导体器件有效电极数目。2-二极管、3-三极管把晶体二极管、三极管以及电阻电容都制作在同一块硅芯片上,称为集成电路。港闸区有什么半导体器件平台

它是由两个PN结构成,其中一个PN结称为发射结,另一个称为集电结。南通优势半导体器件特征

场效应晶体管依靠一块薄层半导体受横向电场影响而改变其电阻(简称场效应),使具有放大信号的功能。这薄层半导体的两端接两个电极称为源和漏。控制横向电场的电极称为栅。根据栅的结构,场效应晶体管可以分为三种:①结型场效应管(用PN结构成栅极);②MOS场效应管(用金属-氧化物-半导体构成栅极,见金属-绝缘体-半导体系统);③MES场效应管(用金属与半导体接触构成栅极);其中MOS场效应管使用*****。尤其在大规模集成电路的发展中,MOS大规模集成电路具有特殊的优越性。MES场效应管一般用在GaAs微波晶体管上。南通优势半导体器件特征

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