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什么是“三电系统”和“电驱系统”？三电系统，即动力电池（简称电池）、驱动电机（简称电机）、电机控制器（简称电控），也被人们成为三大件，加起来约占新能源车总成本的70%以上，是决定整车运动性能主要的组件。电驱系统，我们一般简单把电机、电控、减速器，合称为电驱系统。但严格定义上讲，根据进精电动招股说明书，电驱动系统包括三大总成：驱动电机总成（将动力电池的电能转化为旋转的机械能，是输出动力的来源）、控制器总成（基于功率半导体的硬件及软件设计，对驱动电机的工作状态进行实时控制，并持续丰富其他控制功能）、传动总成（通过齿轮组降低输出转速提高输出扭矩，以保证电驱动系统持续运行在高效区间）。IGBT可以用于电力变换器，用于电力转换和调节。湖南静态测试真空封盖自动线

IGBT模块承担着电力电子转换的主要任务，随着全球制造业向中国的转移，中国已逐渐成为全球较大的IGBT消费市场。在EV、HEV等产业普及的大力推动下，国内IGBT市场需求快速持续增长，近年来IGBT的国产化进程也明显加速。功率半导体主要被用作半导体开关，分类中被大家所熟知的非IGBT这个主流大佬莫属了，现在火热的电动汽车领域中也有着其身影。IGBT 的优点：1、控制电路简单，安装和使用方便。2、有良好的负载特性，控制输出电压、电流均稳定可靠，开关损耗小。3、比双极型开关管的功率损耗低。4、可以由小的控制信号，控制较大的电流或电压。广东工业模块自动组装线IGBT具有良好的可靠性，具有抗电磁干扰能力强、抗温度变化性能好和耐久性高等优点，可以长期稳定运行。

VDMOS功率器件工艺流程是在功率场效应晶体管(VDMOS)的基础上，在其承受高压的飘移区(N型IGBT的N-层)之下增加一层P+薄层引入了电导调制效应，从而较大程度上提高了器件的电流处理能力。IGBT制造流程主要是包括芯片设计，晶圆制造，封装测试；IGBT芯片的制程正面和标准VDMOS差异不大，背面工艺包括:1) 背面减薄；2) 背面注入；3) 背面清洗；4)背面金属化；5) 背面Alloy；这里介绍下IGBT封装的工艺流程及其设备。首先了解下IGBT模块跟单管主要优势有以下几个。多个IGBT芯片并联，IGBT的电流规格更大。多个IGBT芯片按照特定的电路形式组合，如半桥、全桥等，可以减少外部电路连接的复杂性。多个IGBT芯片处于同一个金属基板上，等于是在单独的散热器与IGBT芯片之间增加了一块均热板，工作更可靠。一个模块内的多个IGBT芯片经过了模块制造商的筛选，其参数一致性比市售分立元件要好。

IGBT的工作原理，IGBT是将晶体管的特性和开关电路的特性结合在一起，使其成为一种可以控制电流的新型电子元件。IGBT的结构使其可以实现从开启到关断的电流控制，而不会产生过大的漏电流，也不会影响其他电路的工作。IGBT的工作原理是将电路的电流控制分为两个部分：绝缘栅极的电流控制和双极型晶体管的电流控制。当绝缘栅极上的电压变化时，它会影响到晶体管的导通，从而控制电流的流动。当双极型晶体管的电流控制发挥作用时，它会进一步控制电流的流动，从而使IGBT的效率更高。IGBT的主要参数：1、电压限制：IGBT的电压范围一般在600V-6.5kV之间。2、功率限制：IGBT的功率范围一般在1W-15MW之间。3、漏电流：IGBT的漏电流比MOSFET要小得多，一般在1mA-100mA之间。4、损耗：IGBT的损耗一般比MOSFET要低，可以达到1W-15MW之间。5、热效应：IGBT的热效应比MOSFET要小，可以达到20°C-150°C之间。6、反应时间：IGBT的反应时间一般比MOSFET要快，可以达到1ns-50ns之间。绝缘层：它是IGBT的基础，它由一层绝缘层构成，它可以保护IGBT元件免受外界环境的侵蚀和损坏。

IGBT特性：1、功率特性：IGBT具有良好的功率特性，其重复性能优于MOSFET，可实现高效的恒定功率输出，有利于提高整个系统的工作效率。2、控制特性：IGBT具有良好的控制特性，其输入电压范围较宽，可实现电压控制调节，可以有效抑制电压波动。3、可靠性：IGBT具有良好的可靠性，具有抗电磁干扰能力强、抗温度变化性能好和耐久性高等优点，可以长期稳定运行。4、结构特性：IGBT有着紧凑的结构，体积小，可以降低整个系统的体积，有利于系统的自动化程度的提高。IGBT在发电机控制、高压开关控制、可调节比例控制等电力控制领域有普遍的应用。湖南静态测试真空封盖自动线

IGBT主要的物料有IGBT芯片，二极管，五金件，键合丝，陶瓷基板，外壳等。湖南静态测试真空封盖自动线

电迁移、电化学腐蚀和金属化重构，IGBT 功率模块芯片顶部存在一层 Al 金属薄膜用以与外部进行连接。在电流和温度梯度的作用下，Al 金属离子会沿着导体运动，如沿着键合线运动，产生净质量输运，导致薄膜上出现空洞、小丘或晶须。随着器件的老化，有机硅凝胶的气密性下降，外部的物质会与 Al 金属薄膜接触，使其发生电化学腐蚀。常见的有 Al 的自钝化反应、单一阳极腐蚀电池反应以及与沾污的离子发生反应。金属化重构是由于 Al 与芯片上 SiO2 的 CTE 值相差两个数量级，导致界面处产生循环应力，使得Al 原子发生扩散，造成小丘、晶须和空洞，然后产生塑性形变，引发裂纹。以上所述三种因素导致的 Al 薄膜失效方式会加剧键合点处的疲劳情况，较终导致键合线脱落或电场击穿失效。湖南静态测试真空封盖自动线