北京超高速灰度光刻激光直写

作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统，Quantum X可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版，可适用于批量生产的流水线工业程序，例如注塑，热压花和纳米压印等加工流程，从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点，同时缩短创新微纳光学器件（如衍射和折射光学器件）的整体制造时间。另外，QuantumX打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的QuantumX打印系统可以实现一气呵成的制作想要了解Quantum X 双光子灰度光刻微纳打印设备。北京超高速灰度光刻激光直写

2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合，可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。该系统配备三个用于实时过程控制的摄像头和一个树脂分配器。为了简化硬件配置之间的转换，物镜和样品夹持器识别会自动运行。多层衍射光学元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成，从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示，折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力，可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列，以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状，如球面和非球面透镜。湖南2GL灰度光刻在灰度光刻技术的帮助下，芯片制造商可以更好地满足不断增长的市场需求。

微纳3D打印其实和与灰度光刻有点相似，但是原理不同，我们常见的微纳3D打印技术是双光子聚合和微纳金属3D打印技术，利用该技术我们理论上可以获得任意想要的结构，不光是微透镜阵列结构（如下图5所示），该方法的优势是可以完全按照设计获得想要的结构，对于双光子聚合的微结构，我们需要通过LIGA工艺获得金属模具，但是对于微纳金属3D打印获得的微纳米结构可以直接进行后续的复制工作，并通过纳米压印技术进行复制。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接触式光刻）或者计算机控制激光束或者电子束剂量从而达到在某些区域完全曝透，而某些区域光刻胶部分曝光，从而在衬底上留下3D轮廓形态的光刻胶结构（如下图4所示，八边金字塔结构）。微透镜阵列也是类似，可以通过剂量分布的控制来控制其轮廓形态。

   Nanoscribe是卡尔斯鲁厄理工学院（KIT）的子公司，开发并提供用于纳米、微米和中尺度的3D打印机以及光敏材料和工艺解决方案。其口号是：“我们让小物件变得重要”，公司创始人开发出一种技术，对智能手机、手持设备和医疗技术领域至关重要的3D打印产品。通过基于双光子聚合（2PP）的3D打印机投入市场，他们已经为全球的大学和新兴行业提供了新的解决方案，致力于3D微打印生命科学研究以及纳米级3D打印光学，甚至利用他们的技术来开发创新的设备，例如用于类固醇洗脱的3D微支架人工耳蜗。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法，“Beer's定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制，QuantumX采用双光子灰度光刻技术，克服了这些限制，提供了前所未有的设计自由度和易用性，我们的客户正在微加工的前沿工作。“纳米标记系统基于双光子吸收，这是一种分子被激发到更高能态的过程。欢迎咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）。

超高速灰度光刻技术是一项带领科技发展的重大突破，为我们带来了无限可能。这项技术的出现，将彻底改变我们对光刻的认知，为各行各业带来了巨大的创新机遇。超高速灰度光刻技术主要是利用高能激光束对材料进行精确的刻蚀，从而实现微米级甚至纳米级的精细加工。相比传统的光刻技术，超高速灰度光刻技术具有更高的加工速度和更精确的刻蚀效果。这意味着我们可以在更短的时间内完成更复杂的加工任务，提高了生产效率。超高速灰度光刻技术在电子、光电子、生物医药等领域具有广泛的应用前景。在电子领域，它可以用于制造更小、更快的芯片和电路板，推动电子产品的迭代升级。在光电子领域，它可以用于制造高精度的光学元件，提高光学设备的性能。在生物医药领域，它可以用于制造微型生物芯片和生物传感器，实现更精确的医学诊断。灰度光刻技术采用图像处理的方法。湖南灰度光刻微纳加工系统

由于灰度光刻的高精度特性，它可以有效地解决传统光刻技术中存在的误差和缺陷问题。北京超高速灰度光刻激光直写

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